[发明专利]非易失性存储器单元阵列有效

专利信息
申请号: 201180057866.0 申请日: 2011-11-03
公开(公告)号: CN103238215B 公开(公告)日: 2017-02-15
发明(设计)人: 刘峻 申请(专利权)人: 美光科技公司
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L21/8247
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司11287 代理人: 沈锦华
地址: 美国爱*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 非易失性存储器 单元 阵列
【权利要求书】:

1.一种每单位单元包括五个存储器单元的非易失性存储器单元阵列。

2.根据权利要求1所述的阵列,其中每单位单元仅有五个存储器单元。

3.根据权利要求2所述的阵列,其中所述五个存储器单元占据4F2的水平面积。

4.根据权利要求1所述的阵列,其中每单位单元仅有六个存储器单元。

5.根据权利要求4所述的阵列,其中所述六个存储器单元占据4F2的水平面积。

6.根据权利要求1所述的阵列,其包括多个经垂直定向的存储器单元及多个经水平定向的存储器单元。

7.根据权利要求6所述的阵列,其包括比经水平定向的存储器单元多的经垂直定向的存储器单元。

8.根据权利要求6所述的阵列,其中每单位单元仅有五个存储器单元,且每四个经垂直定向的存储器单元有一个经水平定向的存储器单元。

9.根据权利要求6所述的阵列,其中每单位单元仅有六个存储器单元,且每四个经垂直定向的存储器单元有两个经水平定向的存储器单元。

10.根据权利要求1所述的阵列,其中所述单位单元为六面体,所述六面体具有在所述六面体的两个相对面之间延伸的四个拐角体积,且所述五个存储器单元包括可编程材料,所述存储器单元中的四个存储器单元的所述可编程材料从所述相对面中的一者或另一者延伸到所述六面体内部所述四个拐角体积中的单个拐角体积内。

11.根据权利要求10所述的阵列,其中除所述四个存储器单元以外的另一存储器单元的所述可编程材料接纳于所述六面体的与所述单个拐角体积对角相对的所述拐角体积中。

12.根据权利要求11所述的阵列,其中所述四个存储器单元各自为垂直定向的且所述另一存储器单元为水平定向的。

13.根据权利要求10所述的阵列,其中所述单位单元包括六个存储器单元,所述六个存储器单元包括可编程材料,除所述四个存储器单元以外的两个存储器单元的所述可编程材料被接纳于所述六面体的与所述单个拐角体积对角相对的所述拐角体积中。

14.根据权利要求13所述的阵列,其中所述四个存储器单元各自为垂直定向的且所述两个存储器单元为水平定向的。

15.一种包括五个存储器单元的经垂直堆叠的非易失性存储器单元层阵列,所述五个存储器单元占据所述层中的个别层内的4F2的连续水平面积。

16.根据权利要求15所述的阵列,其包括占据所述层中的个别层内的所述4F2的连续水平面积的六个存储器单元。

17.一种包括多个单位单元的非易失性存储器单元阵列,所述多个单位单元个别地包括可编程材料的三个竖直区,所述三个竖直区包括所述单位单元的至少三个不同存储器单元的所述可编程材料。

18.根据权利要求17所述的阵列,其中所述三个竖直区包括所述单位单元的至少四个不同存储器单元的所述可编程材料。

19.根据权利要求18所述的阵列,其中所述三个竖直区包括五个不同存储器单元的所述可编程材料。

20.根据权利要求18所述的阵列,其包括可编程材料的另一竖直区且其包括所述单位单元的另一存储器单元,所述单位单元包括六个不同存储器单元。

21.根据权利要求17所述的阵列,其中所述单位单元为六面体。

22.根据权利要求17所述的阵列,其中所述竖直区在所述单位单元中的个别单位单元内彼此横向平行延伸。

23.根据权利要求17所述的阵列,其中所述竖直区在所述单位单元中的个别单位单元内具有恒定相应竖直厚度。

24.根据权利要求23所述的阵列,其中所述竖直区在所述单位单元中的个别单位单元内具有至少两个不同竖直厚度。

25.根据权利要求24所述的阵列,其中所述竖直区在所述单位单元中的个别单位单元内具有仅两个不同竖直厚度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于美光科技公司,未经美光科技公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201180057866.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top