[发明专利]电子照相感光构件、处理盒、电子照相设备和制造电子照相感光构件的方法有效
申请号: | 201180057775.7 | 申请日: | 2011-11-25 |
公开(公告)号: | CN103238114A | 公开(公告)日: | 2013-08-07 |
发明(设计)人: | 野口和范;姉崎隆志;志田和久;奥田笃;村井潮;大垣晴信 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03G5/047 | 分类号: | G03G5/047;G03G5/05;G03G5/06;G03G5/147 |
代理公司: | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人: | 魏启学 |
地址: | 日本东京都大*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电子 照相 感光 构件 处理 设备 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及电子照相感光构件、处理盒、电子照相设备和制造电子照相感光构件的方法。
背景技术
作为安装到电子照相设备上的电子照相感光构件,已知包含有机电荷产生物质(有机光导电性物质)的有机电子照相感光构件(以下,称为“电子照相感光构件”)。在电子照相法中,各种构件例如显影剂、充电构件、清洁刮板、纸和转印构件(以下,也称为“接触构件等”)与电子照相感光构件的表面接触。因此,需要电子照相感光构件降低由于与此类接触构件等的接触应力引起的图像劣化的产生。特别地,近年来,随着电子照相感光构件耐久性的改善,需要电子照相感光构件具有持续的降低由于接触应力引起的图像劣化的效果。
为了持续的降低接触应力,专利文献1已提出使用通过将硅氧烷结构组装为分子链获得的硅氧烷树脂而在表面层中形成基体-区域结构(matrix-domain structure)的方法。特别地,该文献显示使用由特定的硅氧烷结构组装的聚酯树脂可实现电子照相感光构件的接触应力的持续降低和重复使用时的电位稳定性(变动的抑制)之间的优异平衡。
另一方面,已提出将在分子链中具有硅氧烷结构的硅氧烷改性的树脂添加到电子照相感光构件的表面层的技术。专利文献2和专利文献3各自提出包含由具有特定结构的硅氧烷结构组装的聚碳酸酯树脂和由具有特定结构的硅氧烷结构组装的聚酯树脂的电子照相感光构件,并报道了例如感光构件表面平滑性(sliding property)和耐久性改善等效果。
引文列表
专利文献
专利文献1:国际专利WO2010/008095A
专利文献2:日本专利申请特开H05-158249
专利文献3:日本专利申请特开H08-234468
发明内容
发明要解决的问题
专利文献1中公开的电子照相感光构件具有接触应力的持续降低和重复使用时的电位稳定性之间的优异平衡。然而,本发明的发明人已进行了研究,结果本发明人发现,在使用具有特定结构的电荷输送物质的情况中,可进一步改善重复使用时的电位稳定性。
专利文献2已报道使用在侧链具有硅氧烷结构的聚碳酸酯树脂来改善电子照相感光构件表面的平滑性。然而,专利文献2的电子照相感光构件未充分地实现接触应力的持续降低和电子照相感光构件重复使用时的电位稳定性(变动的抑制)之间的优异平衡。
专利文献3已报道了,在包含由硅氧烷结构组装的树脂的感光构件中,改善表面的平滑性和耐磨耗性。然而,专利文献3的电子照相感光构件未充分地实现接触应力的持续降低和电子照相感光构件重复使用时的电位稳定性(变动的抑制)之间的优异平衡。
本发明的目的是提供包含特定电荷输送物质的电子照相感光构件,其具有与接触构件等的接触应力持续降低和重复使用时的电位稳定性之间的优异平衡。本发明另外的目的是提供具有电子照相感光构件的处理盒和具有电子照相感光构件的电子照相设备。本发明另外的目的是提供制造电子照相感光构件的方法。
用于解决问题的方案
上述目的通过以下的本发明实现。
本发明涉及电子照相感光构件,其包括:导电性支承体、设置于导电性支承体上且包含电荷产生物质的电荷产生层以及设置于电荷产生层上且为电子照相感光构件的表面层的电荷输送层;其中电荷输送层具有基体-区域结构,所述基体-区域结构具有:区域,所述区域包含由下式(A)表示的重复结构单元和由下式(B)表示的重复结构单元的聚酯树脂;和基体,所述基体包含选自由具有由下式(C)表示的重复结构单元的聚碳酸酯树脂C和具有由下式(D)表示的重复结构单元的聚酯树脂D组成的组的至少一种树脂以及选自由下式(1)表示的化合物和下式(1’)表示的化合物、下式(2)表示的化合物和下式(2')表示的化合物组成的组的至少一种电荷输送物质;其中聚酯树脂A中的硅氧烷部位的含量为5.0质量%以上且40质量%以下,相对于聚酯树脂A的总质量。
式(A)中,Y1表示单键、亚甲基、乙叉基、丙叉基、苯基乙叉基、环己叉基或氧原子;X1表示间亚苯基、对亚苯基或具有经由氧原子键合的两个对亚苯基的二价基团;和W1表示由下式(a)表示的单价基团或由下式(b)表示的单价基团。
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