[发明专利]放射线敏感树脂组合物、使用其的图案形成方法、聚合物及化合物

权利要求书

1.放射线敏感树脂组合物，其含有

〔A〕由一或多种聚合物构成的聚合物成分及

〔B〕放射线敏感酸产生物，

上述〔A〕聚合物成分中的至少一种聚合物具有下式（1）表示的结构单元（I），

〔化1〕

式（1）中，R¹是氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基，R²是碳数为5～21的直链烷基，Z是核原子数为4～20的2价的脂环式烃基或脂肪族杂环基，上述脂环式烃基及脂肪族杂环基所具有的氢原子的一部分或全部可被取代。

2.根据权利要求1所述的放射线敏感树脂组合物，其特征在于，上式（1）中的Z为单环。

3.根据权利要求2所述的放射线敏感树脂组合物，其特征在于，上式（1）中的Z是核原子数为5以上、8以下的2价脂环式烃基。

4.根据权利要求1、2或3中任一项所述的放射线敏感树脂组合物，其特征在于，上式（1）中的R²的碳数在5以上、8以下。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的放射线敏感树脂组合物，其特征在于，〔A〕聚合物成分含有

〔A1〕基础聚合物和

〔A2〕氟原子含有率比〔A1〕基础聚合物高的含氟聚合物。

6.根据权利要求5所述的放射线敏感树脂组合物，其特征在于，〔A1〕基础聚合物具有上述结构单元（I）。

7.根据权利要求5或6所述的放射线敏感树脂组合物，其特征在于，〔A2〕含氟聚合物具有上述结构单元（I）。

8.根据权利要求5、6或7所述的放射线敏感树脂组合物，其特征在于，〔A1〕基础聚合物具有下式（3）表示的结构单元（II），

〔化2〕

式（3）中，R³是氢原子或甲基，R⁴～R⁶分别独立地是碳数为1～4的烷基或碳数为4～20的脂环式烃基，R⁵和R⁶可相互结合，与它们所结合的碳原子一起形成碳数为4～20的2价脂环式烃基。

9.根据权利要求5～8中任一项所述的放射线敏感树脂组合物，其特征在于，〔A2〕含氟聚合物具有含氟原子的结构单元（V）。

10.图案形成方法，其具有

（1）用权利要求1～9中任一项所述的放射线敏感树脂组合物在基板上形成抗蚀膜的抗蚀膜形成工序、

（2）对上述抗蚀膜的至少一部分照射放射线的曝光工序、

（3）对经过曝光的上述抗蚀膜进行加热的加热工序以及

（4）对经过加热的上述抗蚀膜进行显影的显影工序。

11.根据权利要求10所述的图案形成方法，其特征在于，上述加热工序中的加热温度低于100℃。

12.聚合物，其具有下式（1）表示的结构单元（I），

〔化3〕

式（1）中，R¹是氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基，R²是碳数为5～21的直链烷基，Z是核原子数为4～20的2价的脂环式烃基或脂肪族杂环基，上述脂环式烃基及脂肪族杂环基所具有的氢原子的一部分或全部可被取代。

13.化合物，其由下式（2）表示，

〔化4〕

式（2）中，R¹是氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基，R²是碳数为5～21的直链烷基，Z是核原子数为4～20的2价的脂环式烃基或脂肪族杂环基，上述脂环式烃基及脂肪族杂环基所具有的氢原子的一部分或全部可被取代。