[发明专利]包含抗反射涂层的透明基材

权利要求书

1.透明玻璃基材，该基材在它的至少一个面上包含抗反射涂层，所述堆叠体包含交互层，其包括至少一个高指数层和低指数层序列，该高指数层具有40-125纳米的厚度并由具有高于1.80的折射指数的电介质材料制成，和该低指数层由具有低于1.6的折射指数的电介质材料制成，特征在于在所述序列中的所述高指数层包含为通式Sn_xZn_yO_z的材料或者优选地由其构成，其中该Sn/Zn质量比为50/50至85/15。

2.根据前述权利要求之一的基材，特征在于Sn/Zn质量比为55/45至75/25。

3.根据前述权利要求之一的基材，特征在于在所述序列中的所述高指数层的厚度为50至95纳米，优选地为55至80纳米。

4.根据权利要求1-2之一的基材，特征在于在所述序列中的所述高指数层的厚度为80至125纳米，优选地厚度为90至120纳米。

5.根据前述权利要求之一的基材，特征在于所述低指数层由化学计量的硅氧化物SiO₂，或者亚化学计量的硅氧化物SiO_x，其中X＜2，氮氧化硅或者碳氧化硅或者由铝硅混合氧化物构成。

6.根据前述权利要求之一的基材，其包括，从透明基材的表面开始：

-高指数的第一层(1)，其具有为1.8至2.5，优选地1.8至2.2的折射指数n₁，和为5至50纳米的几何厚度e₁；

-低指数的第二层(2)，具有为1.35至1.65的折射指数n₂，和为5至50纳米的几何厚度e₂；

-第三层(3)，具有为50至125纳米的几何厚度e₃，并且包含为通式Sn_xZn_yO_z的材料或者优选地由其构成，其中该Sn/Zn质量比为50/50至85/15，优选地为55/45至75/25；

-低指数的第四层，具有为1.35至1.65的折射指数n₄和为40至120纳米的几何厚度e₄。

7.根据前一权利要求的基材，特征在于第一层(1)包含为通式Sn_xZn_yO_z的材料或者优选地由其构成，其中该Sn/Zn质量比为50/50至85/15，优选地为55/45至75/25。

8.根据权利要求1-5之一的基材，其包括，从透明基材的表面开始：

- 第一层，具有1.65至1.80的折射指数ni，和40至130纳米，更优选地50至90纳米的光学厚度e₅，

-第二层，具有为50至125纳米的几何厚度e₃，并且包含为通式Sn_xZn_yO_z的材料或者优选地由其构成，其中该Sn/Zn质量比为50/50至85/15，优选地为55/45至75/25；

-第三层，具有为1.35至1.65的折射指数n₄和为40至120纳米的几何厚度e₄。

9.根据前述权利要求之一的基材，其中所述抗反射堆叠体存在于所述基材的仅一个面上。

10.根据前述权利要求之一的基材，其中所述抗反射堆叠体存在于所述基材的两个面上。

11.多层窗玻璃，尤其双层窗玻璃，或层压结构，其包含至少一个根据权利要求1-10之一的提供有堆叠体的基材。

12.制备根据权利要求1-10之一的基材的方法，包括其中通过由锡-锌合金构成的靶在氧化性气氛中的反应阴极溅射在抗反射堆叠体中获得为通式Sn_xZn_yO_z的材料的步骤。