[发明专利]光学成像

权利要求书

1.一种用于对基板进行光学成像的方法，所述方法包括：

设置基板；

将液体光聚合物沉积到所述基板的至少一部分上，以在所述基板上形成液体光聚合物膜层；

设置可旋转光学工具；以及

相对于所述基板上的液体光聚合物膜旋转所述光学工具；

其中，在所述基板上形成固化光聚合物的成像图案。

2.根据权利要求1所述的用于对基板进行光学成像的方法，其中，在利用例如紫外辐射对湿光聚合物膜进行成像和照射之前不存在预干燥步骤。

3.根据权利要求1或2中任一项所述的用于对基板进行光学成像的方法，其中，所述可旋转光学工具包括紫外透射/半透射管状结构，诸如由例如玻璃（例如，派热克斯玻璃）、石英或任何其它适当的紫外透射/半透射材料制成的可旋转鼓。

4.根据任意上述权利要求所述的用于对基板进行光学成像的方法，其中，在所述光学工具的中心（或基本上中心）处存在紫外光源，所述紫外光源能够例如在内部光挡板的限制内发出紫外光。

5.根据权利要求4所述的用于对基板进行光学成像的方法，其中，所述紫外光源是发光二极管或基本上中心位于所述光学工具中的发光二极管阵列。

6.根据任意上述权利要求所述的用于对基板进行光学成像的方法，其中，能够使用一连串辊相对于所述可旋转光学工具的外表面按压和旋转涂覆有所述液体光聚合物的基板，这具有消除或移除所述液体湿光聚合物膜与传送辐射的所述光学工具之间的任何空气（即，氧）的效果。

7.根据任意上述权利要求所述的用于对基板进行光学成像的方法，其中，所述可旋转工具是旋转鼓的形式。

8.根据任意上述权利要求所述的用于对基板进行光学成像的方法，其中，使用在紫外透射/半透射管状结构附近的张紧器来张紧所述光学工具。

9.根据任意上述权利要求所述的用于对基板进行光学成像的方法，其中，紫外辐射具有大约200至400nm（例如，大约355nm或365nm或375nm或385nm或395nm或405nm）的波长，并且具有与对暴露的液体光聚合物层进行固化匹配的强度。

10.根据任意上述权利要求所述的用于对基板进行光学成像的方法，其中，所述基板是由塑料材料制成的电介质或非金属层（例如，膜），所述塑料材料诸如为聚酯（例如，Melinex，商标）、聚酰亚胺（例如，Kapton，商标）和聚碳酸酯（例如，Lexan，商标）。

11.根据任意上述权利要求所述的用于对基板进行光学成像的方法，其中，所述基板是柔性的以允许发生卷到卷处理。

12.根据任意上述权利要求所述的用于对基板进行光学成像的方法，其中，在所述基板的顶部存在覆层形式的另一层。

13.根据权利要求11所述的用于对基板进行光学成像的方法，其中，所述覆层由诸如铜、银、金等的传导材料或者诸如PDET或氧化铟锡或石墨烯的传导聚合物制成。

14.根据任意上述权利要求所述的用于对基板进行光学成像的方法，其中，在成像之后，所述基板具有固化图像和残留湿涂层区域（即，没有利用紫外光成像的区域），并且能够经由洗刷过程利用例如碱溶液移除尚未曝光于紫外辐射的液体光聚合物。

15.根据任意上述权利要求所述的用于对基板进行光学成像的方法，其中，在施加所述液体光聚合物之前，使用接触清洁处理来清洁所述基板，以从所述基板的表面移除碎片和/或污染物。

16.根据任意上述权利要求所述的用于对基板进行光学成像的方法，其中，使用任何适当的技术来沉积所述液体光聚合物，诸如使用包括涂料辊和控制所述液体光聚合物的沉积速率的可选的刮墨刀的辊单元。

17.根据任意上述权利要求所述的用于对基板进行光学成像的方法，其中，使用喷射、涂刷、辊、富瑞凸版印刷辊/丝网印刷辊/凸版印刷辊/凹版印刷辊和/或浸涂系统来沉积所述液体光聚合物。