[发明专利]钻井设备上的传感器有效
| 申请号: | 201180053701.6 | 申请日: | 2011-11-08 |
| 公开(公告)号: | CN103201455A | 公开(公告)日: | 2013-07-10 |
| 发明(设计)人: | S·库马尔 | 申请(专利权)人: | 贝克休斯公司 |
| 主分类号: | E21B47/01 | 分类号: | E21B47/01 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 赵培训 |
| 地址: | 美国得*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 钻井 设备 传感器 | ||
1.一种钻井设备,包括:
设置在井眼中的钻柱,该钻柱包括:
管件;
连接到管件上的井下钻具组件;以及
钻头,其设置在井下钻具组件的端部上;
应变仪,其直接沉积在钻柱上。
2.根据权利要求1的钻井设备,包括布置在应变仪上的保护装置。
3.根据权利要求2的钻井设备,其中,保护装置包括从由保护涂层和覆盖件所构成的组中选择的一种。
4.根据权利要求1的钻井设备,其中,应变仪包括位于电绝缘层上的传感器层,电绝缘层直接形成在钻柱的金属基底上。
5.根据权利要求4的钻井设备,其中,金属基底包括选自由管件主体部分、钻头主体部分和井下钻具组件的主体部分所构成的组中之一。
6.根据权利要求4的钻井设备,其中,在金属基底中形成有凹槽,应变仪布置在凹槽中。
7.根据权利要求4的钻井设备,其中,传感器层包括薄膜电极。
8.根据权利要求7的钻井设备,其中,薄膜电极通过选自下列方式组中的一种方式形成在绝缘层上:溅射沉积、化学气相沉积、激光加工、蚀刻、蒸发、荫罩、丝网印刷、喷墨印刷、以及以上方式的任一种组合方式。
9.根据权利要求7的钻井设备,其中,薄膜电极包括应变敏感材料,电绝缘层包括选自以下成分组中的一种成分:金属氧化物、氧化硅、类金刚石涂层、陶瓷和聚合物。
10.根据权利要求1的钻井设备,其中,应变仪包括一种嵌入在形成于钻柱上的凹腔中的压电材料。
11.一种钻井设备,包括:
设置在井眼中的钻柱;和
应变仪,其直接沉积在钻柱上,该应变仪包括位于电绝缘层上的传感器层,电绝缘层直接沉积在钻柱的金属基底上。
12.根据权利要求11的钻井设备,其中,金属基底包括选自由管件主体部分、钻头主体部分和井下钻具组件的主体部分所构成的组中之一。
13.根据权利要求12的钻井设备,其中,传感器层包括薄膜电极。
14.根据权利要求12的钻井设备,包括布置在应变仪上的保护装置。
15.根据权利要求14的钻井设备,其中,保护装置包括从由保护涂层和覆盖件所构成的组中选择的一种。
16.一种钻井设备,包括:
设置在井眼中的钻柱;和
应变仪,其直接沉积在放大结构上,该放大结构连接到钻柱上,应变仪包括位于电绝缘层上的传感器层,电绝缘层直接沉积在放大结构的金属基底上。
17.根据权利要求16的钻井设备,包括布置在应变仪上的保护装置。
18.根据权利要求16的钻井设备,其中,传感器层包括薄膜电极。
19.根据权利要求18的钻井设备,其中,薄膜电极通过选自下列方式组中的一种方式形成在绝缘层上:溅射沉积、化学气相沉积、激光加工、蚀刻。
20.根据权利要求18的钻井设备,其中,薄膜电极包括应变敏感材料,电绝缘层包括选自以下成分组中的一种成分:金属氧化物、氧化硅、类金刚石涂层、陶瓷层和聚合物。
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