[发明专利]再生剂的纳米结构以及生产再生剂纳米结构的稳定形式的方法

权利要求书

1.一种再生纳米结构，由天然的和/或合成的水合物和/或它们的混合物的脱水产物，在固有水分去除温度和300到1200℃的脱水产物稳定温度下生产而来，在稳定状态下，其包含选自MgO和/或SiO₂和/或Al₂O₃和/或CaO和/或Fe₂O₃和/或K₂O和/或Na₂O范围的氧化物，其包含纳米晶和结合相，其特征在于，该纳米结构具有无定形的石榴石形状，尺寸在100到100000纳米范围内，纳米晶的尺寸在2到2000纳米范围内。

2.根据权利要求1的再生纳米结构，其特征在于，固有水分去除温度为300到1000℃。

3.根据权利要求1的再生纳米结构，其特征在于，脱水产物稳定温度为700到1200℃。

4.根据权利要求1的再生纳米结构，其特征在于，再生纳米结构的无定形石榴石形状由天然的和/或合成的水合物的混合产物生产而来。

5.根据权利要求1的再生纳米结构，其特征在于，无定形石榴石形状的结合相由一个或几个选自MgO和/或SiO₂和/或Al₂O₃和/或CaO和/或Fe₂O₃和/或K₂O和/或Na₂O范围的氧化物生产而来。

6.根据权利要求1的再生纳米结构，其特征在于，无定形石榴石形状的纳米晶由一个或几个选自MgO和/或SiO₂和/或Al₂O₃和/或CaO和/或Fe₂O₃和/或K₂O和/或Na₂O范围的氧化物生产而来。

7.根据权利要求1的再生纳米结构，其特征在于，纳米颗粒的硬度为7-10个莫氏硬度单位。

8.一种制备稳定形式的再生纳米结构的方法，其包括在不超过900°С的固有水分去除温度下，天然的和/或合成的水合物和/或它们的混合物的脱水阶段，其中所述氧化物选自包括MgO和/或SiO₂和/或Al₂O₃和/或CaO和/或Fe₂O₃和/或K₂O和/或Na2O的组，应用获得的产物到摩擦表面上或摩擦区域中，其特征在于，形成稳定形式的再生结构，此外，所述方法包括获得永久性结构形式的阶段（稳定阶段），其包括在900到1200℃的温度下保持1到3小时以对脱水产物进行稳定，再生纳米结构稳定在100-100000纳米的范围，以及当h≤Ra≤稳定的再生纳米结构的尺寸时，获得稳定的几何形状（滚动形状）的阶段，其发生在将稳定的脱水产物应用到摩擦表面上或摩擦区域中之后，其依赖于润滑摩擦模式，h—润滑层的厚度或摩擦表面之间的距离，Ra—表面粗糙度。

9.按照权利要求8的制备稳定形式的再生纳米结构的方法，其特征在于，当h<Ra≤稳定的再生纳米结构的尺寸时，获得稳定的再生纳米结构的几何形状（滚动形状）的阶段发生于限制润滑摩擦模式。

10.按照权利要求8的制备稳定形式的再生纳米结构的方法，其特征在于，当h=Ra≤稳定的再生纳米结构的尺寸时，获得稳定的再生纳米结构的几何形状（滚动形状）的阶段发生于组合润滑模式或组合摩擦模式。

11.按照权利要求8的制备稳定形式的再生纳米结构的方法，其特征在于，当h趋于0，Ra≤稳定的再生纳米结构的尺寸时，获得稳定的再生纳米结构的几何形状（滚动的形状）的阶段发生于干摩擦模式。