[发明专利]用于具有负倾斜侧壁的台面结构的激光直写的系统

权利要求书

1.一种用于在包括一个或多个平面光敏层的平面衬底（1）上进行激光直写的系统（10），所述系统至少包括：

写入激光器（20），来自所述写入激光器的光束（F）具有光线对称性；

一组光学器件（23），所述光学器件用于聚焦所述光束到所述平面光敏层的平面上；

用于所述平面衬底的平移移动的装置（30），

其特征在于，所述系统包括光学或机械装置（50），所述光学或机械装置配置为使所述光束的有用部分在光敏层的平面上倾斜，以便在所述层内产生具有倒置斜面的剖面，所述光束的有用部分为实际上有助于产生所述剖面的所述光束的部分，聚焦光学器件的光轴垂直于所述光敏层的平面。

2.根据权利要求1所述的激光直写系统，其特征在于，所述系统包括位于所述聚焦光学器件附近的用于部分遮挡所述光束的装置。

3.根据权利要求2所述的激光直写系统，其特征在于，所述遮挡装置为具有直边缘的不透明薄平面叶片（50）。

4.根据权利要求2所述的激光直写系统，其特征在于，所述遮挡装置为变迹叶片，所述变迹叶片允许在所述平面光敏层的平面上产生光束，以使所述光束的有用部分在所述平面光敏层的平面上倾斜而没有衍射条纹。

5.根据权利要求2至4中的一项所述的激光直写系统，其特征在于，所述遮挡装置安装在能够平移和/或旋转地调节的至少一个平台上。

6.根据权利要求1所述的激光直写系统，其特征在于，所述光束具有直至所述平面光敏层的平面的水平的光线对称性，所述聚焦光学器件的光轴与所述光敏层的平面垂直，所述光束在所述平面光敏层的平面上失焦。

7.根据权利要求6所述的激光直写系统，其特征在于，所述聚焦光学器件将球面像差引入到所述光束中，从而在所述平面光敏层的平面上的球面像差的焦散面在其外围比在其中心包含更多的能量。

8.一种根据前述权利要求中的一项所述的激光直写系统的用途，所述用途用于执行光刻方法的步骤。

9.一种用于激光直写到由抗蚀剂覆盖的衬底上的方法，包括：

-提供根据权利要求1至7中的一项所述的激光直写系统；

-通过来自所述系统的激光对所述抗蚀剂进行处理。