[发明专利]涂覆玻璃的方法有效
| 申请号： | 201180051081.2 | 申请日： | 2011-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN103269991A | 公开（公告）日： | 2013-08-28 |
| 发明（设计）人： | J·A·赖达尔奇;J·巴克特 | 申请（专利权）人： | 皮尔金顿集团有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/00 | 分类号： | C03C17/00;C03C17/36 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 李英 |
| 地址： | 英国默*** | 国省代码： | 英国;GB |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 玻璃 方法 | ||
1.一种生产涂覆玻璃的方法，该方法包括：
a)提供玻璃基材
b)在玻璃基材的至少一个表面上沉积化学气相沉积(CVD)的涂层来生产CVD涂覆玻璃；
c)在CVD涂覆玻璃的表面上溅射沉积另外的涂层，其中另外的涂层包含至少三个反射金属层。
2.如权利要求1所述的方法，其中一个或多个反射金属层包含银。
3.如权利要求1或权利要求2所述的方法，其中至少一个介电层被沉积在各反射金属层之间。
4.如前述权利要求任一项所述的方法，其中CVD涂层包含一个或多个层。
5.如权利要求4所述的方法，其中CVD涂层包含掺杂或未掺杂的氧化物，该氧化物包括硅氧化物、钛氧化物、锡氧化物和/或锌氧化物的一种或多种。
6.如前述权利要求任一项所述的方法，其中将CVD涂层的各层沉积为10nm至50nm之间的厚度。
7.如前述权利要求任一项所述的方法，其中在玻璃生产过程中沉积CVD涂层。
8.如前述权利要求任一项所述的方法，其中玻璃基材包括浮法玻璃基材。
9.如权利要求8所述的方法，其中玻璃基材的表面为气体一侧的表面。
10.如前述权利要求任一项所述的方法，其中沉积另外的涂层包括溅射沉积至少一层金属保护层。
11.根据权利要求3至10任一项所述的方法，其中一个或多个介电层包含AlNx、SiNx、SixAlyNz、ZnxSnyOz、ZnO、SnOx、TiOx和ZnxAlyOz或其混合物。
12.如前述权利要求任一项所述的方法，其中将一层或者每一层反射金属层沉积为6nm至30nm之间的厚度。
13.涂覆玻璃，其包含：
a)玻璃基材
b)在玻璃基材的至少一个表面上的CVD沉积的涂层；和
c)在CVD沉积的涂层上的另外的溅射沉积的涂层，其中溅射沉积的涂层包含至少三个反射金属层。
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