[发明专利]包括导电图形的触摸面板及其制备方法

权利要求书

1.一种结构体，其包括：

基板；

导电层，其被设置在所述基板的至少一个表面上；和

光吸收层，其被设置在所述导电层的至少一个表面上。

2.根据权利要求1所述的结构体，其中，在所述光吸收层的与所述导电层接触的表面的相对表面的方向上测量的总反射系数为15%以下。

3.根据权利要求1所述的结构体，其中，在所述光吸收层的与所述导电层接触的表面的相对表面的方向上测量的总反射系数为10%以下。

4.根据权利要求1所述的结构体，其中，在所述光吸收层的与所述导电层接触的表面的相对表面的方向上测量的总反射系数为5%以下。

5.根据权利要求1所述的结构体，其中，在所述光吸收层的与所述导电层接触的表面的相对表面的方向上测量的总反射系数为3%以下。

6.根据权利要求1所述的结构体，其中，所述光吸收层被设置在所述导电层与基板之间，并且在所述基板侧测量的总反射系数为15%以下。

7.根据权利要求1所述的结构体，其中，所述光吸收层被设置在所述导电层与基板之间，并且在所述基板侧测量的总反射系数为10%以下。

8.根据权利要求1所述的结构体，其中，所述光吸收层被设置在所述导电层与基板之间，并且在所述基板侧测量的总反射系数为5%以下。

9.根据权利要求1所述的结构体，其中，所述光吸收层被设置在所述导电层与基板之间，并且在所述基板侧测量的总反射系数为3%以下。

10.根据权利要求1所述的结构体，其中，所述光吸收层被设置在所述导电层与基板接触的表面的相对表面上，并且在所述光吸收层侧测量的总反射系数为15%以下。

11.根据权利要求1所述的结构体，其中，所述光吸收层被设置在所述导电层与基板接触的表面的相对表面上，并且在所述光吸收层侧测量的总反射系数为10%以下。

12.根据权利要求1所述的结构体，其中，所述光吸收层被设置在所述导电层与基板接触的表面的相对表面上，并且在所述光吸收层侧测量的总反射系数为5%以下。

13.根据权利要求1所述的结构体，其中，所述光吸收层被设置在所述导电层与基板接触的表面的相对表面上，并且在所述光吸收层侧测量的总反射系数为3%以下。

14.根据权利要求1所述的结构体，其中，所述结构体的20°光泽度值为350以下。

15.根据权利要求1所述的结构体，其中，所述结构体的20°光泽度值为300以下。

16.根据权利要求1所述的结构体，其中，所述结构体的60°光泽度值为300以下。

17.根据权利要求1所述的结构体，其中，所述结构体的60°光泽度值为250以下。

18.根据权利要求1所述的结构体，其中，基于CIE色坐标，所述结构体的颜色范围的L值为30至40。

19.根据权利要求1所述的结构体，其中，基于CIE色坐标，所述结构体的颜色范围的L值为25至30。

20.根据权利要求1所述的结构体，其中，基于CIE色坐标，所述结构体的颜色范围的L值为16至25。

21.根据权利要求1所述的结构体，其中，基于CIE色坐标，所述结构体的颜色范围的L值为5至16。

22.根据权利要求1所述的结构体，其中，基于CIE色坐标，所述结构体的颜色范围的L值为1至5。

23.根据权利要求1所述的结构体，其中，所述光吸收层包括选自介电材料、金属、金属合金、金属氧化物、金属氮化物、金属氮氧化物和金属碳化物中的一种或多种。

24.根据权利要求23所述的结构体，其中，所述金属包括选自Ni、Mo、Ti、Cr、Al、Cu、Fe、Co、Ti、V、Au和Ag中的一种或多种。