[发明专利]半导体元件接合用贵金属糊料有效
| 申请号: | 201180048501.1 | 申请日: | 2011-09-30 |
| 公开(公告)号: | CN103155126A | 公开(公告)日: | 2013-06-12 |
| 发明(设计)人: | 宫入正幸;秋山伸之;稻垣克二;小柏俊典 | 申请(专利权)人: | 田中贵金属工业株式会社 |
| 主分类号: | H01L21/52 | 分类号: | H01L21/52;H01B1/22 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 胡烨 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 半导体 元件 接合 贵金属 糊料 | ||
1.半导体元件接合用贵金属糊料,它是由贵金属粉末和有机溶剂构成的贵金属糊料,其特征在于,贵金属粉末的纯度在99.9质量%以上,平均粒径为0.1~0.5μm,有机溶剂的沸点为200~350℃,贵金属糊料的由通过旋转粘度计得到的23℃的剪切速率4/s的粘度相对于剪切速率40/s的粘度的测定值算出的触变性指数(TI)值在6.0以上。
2.如权利要求1所述的贵金属糊料,其特征在于,贵金属粉末包括金粉末或银粉末中的任意一种以上。
3.如权利要求1或2所述的贵金属糊料,其特征在于,贵金属糊料中的贵金属粉末的体积含有率为26~66体积%(v/v)。
4.如权利要求1~3中的任一项所述的贵金属糊料,其特征在于,用于半导体元件的小片接合。
5.如权利要求1~4中的任一项所述的贵金属糊料,其特征在于,在接合半导体元件的情况下的接合部,X射线透视图像中由相对于接合部整体的面积的接合部中密合的部分的面积比例算出的接合率在90%以上。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





