[发明专利]光反应性聚合物及包括该聚合物的取向层

权利要求书

1.一种光反应性聚合物，其包括具有至少一个光反应性取代基的基于环状烯烃的重复单元，

所述光反应性聚合物在总曝光剂量为20mJ/cm²或更低时曝光至波长为150至450nm的偏振UV辐射后由d(二氯比)/d(mJ/cm²)得到的每单位UV剂量的二氯比变化的最大绝对值至少为0.003。

2.权利要求1的光反应性聚合物，其中由d(二氯比)/d(mJ/cm²)得到的每单位UV剂量的二氯比变化的最大绝对值为0.003至0.008。

3.权利要求1的光反应性聚合物，其中在总曝光剂量20mJ/cm²时曝光至波长为150至450nm的偏振UV辐射后由d(二氯比)/d(mJ/cm²)得到的每单位UV剂量的二氯比变化的最大绝对值为0.003至0.008。

4.权利要求1或3的光反应性聚合物，所述光反应性聚合物吸收波长为270至340nm的偏振UV辐射。

5.权利要求1的光反应性聚合物，其中在总曝光剂量为500mJ/cm²或更高时曝光至偏振UV辐射后由d(二氯比)/d(mJ/cm²)得到的每单位UV剂量的二氯比变化的绝对值保持在0至0.00006范围。

6.权利要求5的光反应性聚合物，其中在总曝光剂量为500至2,500mJ/cm²时曝光至光后由d(二氯比)/d(mJ/cm²)得到的每单位UV剂量的二氯比变化的绝对值保持在0至0.00006范围。

7.权利要求1的光反应性聚合物，其中基于环状烯烃的重复单元包括下式3a或3b的重复单元：

[式3a]               [式3b]

其中独立地，m为50至5,000；

q为0至4的整数；

R1、R2、R3和R4中至少一个为下式1a和1b所代表基团的任何一个，

在R1至R4中，除式1a或1b的基团外的余者为相同或彼此不同并且独立地选自氢；卤素；具有1至20个碳原子的取代或未取代的直链或支链烷基；具有2至20个碳原子的取代或未取代的直链或支链烯基；具有2至20个碳原子的取代或未取代的直链或支链炔基；具有3至12个碳原子的取代或未取代的环烷基；具有6至40个碳原子的取代或未取代的芳基；和包括氧、氮、磷、硫、硅和硼中至少一个的极性官能团，

当R1至R4不为氢、卤素或极性官能团时，R1和R2配位以及R3和R4配位中至少一个配位彼此键合以形成具有1至10个碳原子的亚烷基；或者R1或R2键合至R3或R4以形成具有4至12个碳原子的饱和或不饱和的脂肪族环或具有6至24个碳原子的芳香族环，

[式1a]                [式1b]

其中A为化学键、氧、硫或–NH-；

B选自化学键、具有1至20个碳原子的取代或未取代的亚烷基、羰基、羧基、酯、具有6至40个碳原子的取代或未取代的亚芳基和具有6至40个碳原子的取代或未取代的杂亚芳基；

X为氧或硫；

R9选自化学键、具有1至20个碳原子的取代或未取代的亚烷基、具有2至20个碳原子的取代或未取代的亚烯基、具有3至12个碳原子的取代或未取代的亚环烷基、具有6至40个碳原子的取代或未取代的亚芳基、具有7至15个碳原子的取代或未取代的亚芳烷基和具有2至20个碳原子的取代或未取代的亚炔基；

R10至R14中至少一个为–L-R15-R16-（取代或未取代的C6-C40芳基）代表的基团，

在R10至R14中，除–L-R15-R16-（取代或未取代的C6-C40芳基）基团外的余者为相同或彼此不同并且独立地选自氢；卤素；具有1至20个碳原子的取代或未取代的烷基；具有1至20个碳原子的取代或未取代的烷氧基；具有6至30个碳原子的取代或未取代的芳氧基；具有6至40个碳原子的取代或未取代的芳基；和具有第14、15或16族中的杂元素的含6至40个碳原子的杂芳基；

L选自氧、硫、-NH-、具有1至20个碳原子的取代或未取代的亚烷基、羰基、羧基、-CONH-和具有6至40个碳原子的取代或未取代的亚芳基；

R15为具有1至10个碳原子的取代或未取代的烷基；并且

R16选自化学键、-O-、-C(=O)O-、-OC(=O)-、-NH-、-S-和–C(=O)-。