[发明专利]含铁颗粒的有机卤素化合物的分解剂及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及含铁颗粒的有机卤素化合物的分解剂，更详细而言，涉及包含具有特有的表面组成的由铁和氧化铁组成的铁颗粒的有机卤素化合物的分解剂及其制造方法。

背景技术

以往，为了净化被三氯乙烯等有机卤素化合物污染的土壤、地下水，提出有使用提高了比表面积的铁粉作为分解剂，能够比较廉价且短时间地进行无害化处理的方法(专利文献1)。另外，为了改善有机卤素化合物的分解性能，公开并采用一种使用含有铜的铁粉作为分解剂的技术(专利文献2)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平11-235577号公报

专利文献2：日本特开2000-5740号公报

发明内容

发明要解决的问题

然而，在专利文献1的增大铁粉的比表面积的技术中，未能得到充分的有机卤素化合物的分解性能。另外，在专利文献2的使用含铜的铁粉的技术中，尽管改善有机卤素化合物的分解特性，但由于含有铜，有时在工序中存在铜溶出的情况，从含铜的铁粉的生产成本方面来看，也在寻求不含有铜就能够高效地分解有机卤素化合物的分解剂。

基于这样的背景，本发明人曾尝试分解剂的扁平化作为增大比表面积的方法，然而分解能力的改善效果不充分。

本发明是鉴于这样的现有技术中存在的课题而进行的，其目的在于，提供一种无需含有铜的由铁颗粒构成且具有充分分解有机卤素化合物能力的分解剂及其制造方法。

用于解决问题的方案

本发明人为了解决上述课题，经过深入研究，考虑除了分解剂的比表面积以外的影响铁粉的分解能力的因素，发现铁粉的表面氧化的进行是分解能力下降的重要原因这一新见解，从而完成了本发明。

第一本发明是一种有机卤素化合物的分解剂，其为包含由铁和氧化铁组成的铁颗粒的有机卤素化合物的分解剂，其中，铁颗粒具有在下述蚀刻条件下进行两次离子束蚀刻时在铁颗粒的最表面层中金属铁的含量为15质量%以上的值，蚀刻条件为

腔室内的真空度：2.0×10^-2Pa、

离子枪的加速电压：10kV、

发射电流：10mA、

蚀刻时间：14秒。

第二本发明是一种有机卤素化合物的分解剂的制造方法，其为上述有机卤素化合物的分解剂的制造方法，其包括：在装有液体介质的球磨机的仓(pot)中对铁粉进行湿式处理的工序；将湿式处理后的铁粉用水性溶剂洗涤的工序；将洗涤后的铁粉在30℃以下的温度下干燥得到铁颗粒的工序。

发明的效果

本发明的有机卤素化合物的分解剂不含有铜等，具有改善有机卤素化合物的分解特性这样的效果。

附图说明

图1为表示有机卤素化合物的分解剂的作为XRD分析结果而得到的光谱的一个例子的图。

具体实施方式

本发明的有机卤素化合物的分解剂包含由铁和氧化铁组成的铁颗粒，该铁颗粒具有在下述蚀刻条件下进行两次离子束蚀刻时在铁颗粒的最表面层中金属铁的含量为15～20质量%的值，蚀刻条件为

腔室内的真空度：2.0×10^-2Pa、

离子枪的加速电压：10kV、

发射电流：10mA、

蚀刻时间：14秒。

即，本发明的铁颗粒：(1)作为构成成分，由金属铁和氧化铁组成；(2)在前述蚀刻条件下进行两次离子束蚀刻时在铁颗粒的表面层中金属铁的含量为15质量%以上。

((1)铁颗粒的构成成分)

铁颗粒实质上由铁(即金属铁)和氧化铁组成。作为氧化铁，包括氧化亚铁(FeO)、三氧化二铁(Fe₂O₃)和四氧化三铁(Fe₃O₄)。铁颗粒由较多量的金属铁、和较少量的氧化铁组成。

(铁颗粒的BET比表面积)

铁颗粒优选具有1.0m²/g以上的BET比表面积。更优选为1.5m²/g以上。