[发明专利]用于治疗牙科病症的硅氧烷和活性成分的组合无效
| 申请号: | 201180045496.9 | 申请日: | 2011-07-13 |
| 公开(公告)号: | CN103096890A | 公开(公告)日: | 2013-05-08 |
| 发明(设计)人: | H.H.舒尔茨 | 申请(专利权)人: | 拜尔创新有限责任公司 |
| 主分类号: | A61K31/437 | 分类号: | A61K31/437;A61K9/00;A61K47/24;A61K6/00 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 赵苏林;林森 |
| 地址: | 德国莱*** | 国省代码: | 德国;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 治疗 牙科 病症 硅氧烷 活性 成分 组合 | ||
发明领域
本发明涉及包含通式(I)的硅氧烷的药物组合物
其中
R 是指-C1-C6-烷基;
R1和R2各自彼此独立地是指-C1-C6-烷基,或一起形成(2n)-元环;以及
n为2至8的整数,
其与药理学活性成分组合用于预防或治疗牙科病症,优选用于牙修复学。
发明背景
硅氧烷从现有技术中获知并在化妆品配方、皮肤护理品、头发护理品、口腔护理品和指甲护理品、防晒霜、除臭剂、止汗剂、液体绷带、唇膏和其它装饰性化妆品中广泛用作挥发性载体。据报道化合物在皮肤上呈现舒适感,其结合它们相对高的挥发性使它们特别适用于化妆品配方 (参见,例如WO 2003/042221)。WO 2007/013175公开了包含六甲基环三硅氧烷、八甲基环四硅氧烷、十二甲基环六硅氧烷和甘油的牙齿增白剂。
牙科病症如蛀牙(龋齿)、牙髓学病症和牙周病症经常是由细菌引起的。
蛀牙 (例如,龋齿)是由对口腔具有特异性的微生物引起的。口腔细菌将膳食碳水化合物转化为能够溶解牙釉质(tooth enamel或enamelum)和牙本质(dentin或dentinum)的酸。如果牙釉质表面被破坏,则细菌朝牙髓的方向进一步穿透进入下面的牙本质并使牙本质锥变软。牙本质具有穿过它的径向通道 (牙本质小管)。已知微生物及它们的毒素沿着牙本质小管而行,因此随着状态发展出现局部感染或全面感染,并因此出现牙髓炎症。如果龋齿大量穿透牙本质层或到达牙髓,则将所述情况称为深龋齿(caries profunda)。
与治疗牙髓有关的特殊问题是小淋巴供应,它的位置为具有小侧支循环的末端器官,以及外界刺激的影响使它的位置在坚硬、不可弯曲的牙腔中。
为了治疗深龋齿,通常使用氢氧化钙制剂或氧化锌/丁香油 (丁香酚)。两种药物都是强碱性的,具有抗菌作用并引起牙髓局部区域的腐蚀性坏死。尽可能地去除感染和坏死的牙髓并用合适的根管填充物填充牙髓腔(牙髓学治疗)。如果牙髓是坏疽性的,则仅可能在感染的根管系统和根管附近的牙本质能被杀菌的情况下期望获得成功。主要问题是细菌感染的根管的根尖三角区难到达,其难以清洁,并且还有感染的根管壁系统,其需要使用仪器付出相当大的努力去除。
抗生素已被用于全身和局部治疗患者的牙科药物。在许多情况下,口腔部位的细菌感染能通过全身活性抗生素的给药成功治疗,但抗生素的全身给药必定烦扰整个生物体。这在许多情况下可能是不当的,例如由于患者的临床表现,如果患者患有其它疾病或者如果存在致敏可能性。在这种情况下有利的是外部和/或局部应用抗生素以便还能以较高的局部组织浓度使用它。
在牙修复学中外部和/或局部应用抗生素面临的主要挑战是找到深度穿透进入感染的口腔部位的抗生素。这在关注具有牙本质小管的根管系统和/或周围牙本质时尤其重要。在许多情况下,细菌感染发现晚并且病原微生物已经在牙髓的侧支中、根尖三角区中、根尖周区域中和牙髓腔的外部牙本质层中存在。已知因为解剖学条件在许多这些根管区域中使用仪器不能完全去除感染的组织。通常使用仪器不能达到和准备多个分支,例如根尖三角区或侧支以及髓管。通常的消毒剂也常常不成功。当微生物增长超过根管孔 (根尖孔)时出现特别困难的情况。使用根管插入物形式的根管仪器或消毒剂不能到达该尖周区域。在该情况下,必须应用深入至根尖周区域并消灭所有微生物的抗生素。
在牙修复学中外部和/或局部应用抗生素面临的另一挑战是找到仅引出低的产生抗生素耐药性的倾向并且不仅显示抑菌作用而且显示杀菌作用的抗生素。许多抗生素仅显示抑菌作用,其允许耐药微生物失控并且能引起对特定抗生素的超敏反应。如果抗生素不到达整个感染区域或不显示杀菌作用,则总是有残留微生物被留下的危险。
EP 1 408 034 A1公开了某些喹诺酮羧酸或萘啶酮羧酸和/或4H-氧代喹嗪的衍生物在制备用于外部和/或局部治疗和/或预防或治疗由口腔部位和/或牙齿部位和/或颌部位中的细菌引起的疾病,用于围手术期预防或用于外部和/或局部治疗人或动物的糖尿病足综合征的药物中的用途。喹诺酮和氟喹诺酮属于旋转酶抑制剂的分类并且因此是杀菌抗生素。
JP 2002/179569 (A)涉及用于口腔的组合物,其特征在于在包含羟基-2-吡啶酮衍生物的用于口腔的组合物中配制硅化合物。
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