[发明专利]干化学品溶液的制备方法和手段有效
| 申请号: | 201180044763.0 | 申请日: | 2011-08-19 |
| 公开(公告)号: | CN103189132A | 公开(公告)日: | 2013-07-03 |
| 发明(设计)人: | 詹姆斯·P·布伦南;扎卡里·H·亚当斯;保罗·Z·曹 | 申请(专利权)人: | 奥麒化工公司 |
| 主分类号: | B01F1/00 | 分类号: | B01F1/00 |
| 代理公司: | 北京市兰台律师事务所 11354 | 代理人: | 陈耀东 |
| 地址: | 美国康涅狄格州诺*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 化学品 溶液 制备 方法 手段 | ||
技术领域
本领域涉及到水处理,具体是将干化学品溶液引入水流的装置。
技术背景
实践中很多时候均需要水处理。未经水处理的水易滋长细菌、藻类及其他不良或潜在有害生物。定期或连续的引入控制不良生物生长的化学品等对水进行处理已成为普遍的做法。
化学加料机将水引入固体、干燥的处理化学品,使得化学物质以一种受控方式溶解在水中。化学加料机的一种典型应用中,加料机溶解次氯酸钙(次氯酸钙)的固体颗粒,从而将氯引入水流。流离氯浓度(FAC),一般表示为在水中的氯的数量。
一个有效的加料机设计必须提供理想速率的溶解,以维持所需的FAC浓度,同时避免不必要的沉积或残留,这对产生碳酸钙沉积物的次氯酸钙尤为重要。特别是,化学加料器可以在无人看管操作的情况下连续提供高密度的FAC。
发明概要
本发明公开了制备化学溶液的设备和方法。
本发明公开了一种包括下壳体和上壳体的装置。下壳体包括一个基底,一个侧壁和一个有一个中央开口的上板。上壳体包括一个侧壁,一个被连接到上板的下肢。网格被安装在上板并覆盖中央开口,网格至少形成一个上壳体的上部腔室的下边界的部分。下壳体壁将下壳体内部划分为中央的内部腔室和一个环形外腔,此壁具有与下壳体侧壁内部高度大致相等的高度。壁的一部分高度缩减,以允许流体从内部腔室流至外部腔室。喷嘴被设置在内部腔室,朝向内部腔室网格排出流体,使得内部腔室流体表面局部升高。在一个实例中,喷嘴是一个具有流体进口的喷射器,得以创建一个文丘里效应,从而将内部腔室流体抽入喷射器中。
实践中,喷射器使得内部腔室流体表面局部升高至喷嘴上方,所以,该部分表面升于网格上方。升于网格上方的流体溶解位于上部腔室的化学物质,并置于网格上。化学物质可以是片剂、团块、芯片、颗粒、丸状等形式。溶解材料通过网格降至内部腔室并于内部腔室流体混合。化学溶液从内部腔室流至外部腔室并通过出口。
本发明公开了一种制备包括一个有底部网格的上部壳体及有喷嘴的下部壳体,使得水垂直朝向网格的化学送料器;从喷嘴排出流体造成化学进料器中的流体表面被局部升高至喷嘴上方,高于网格;随着流体升于网格上方,溶解化学物质置于网格顶部;引导脱离下壳体水和溶解材料的混合物的化学方法。
上文概述了本发明的优选特征,使本领域技术人员能更好地理解下文对本发明的详细描述。本发明的附加特征将在下文描述,形成本发明的权利要求的主题。本领域技术人员应能理解,他们可以以发明的概念和具体实施例为基础,设计或修改与本发明相同目的的其他结构,和不偏离本发明精神和范围的其他这样的结构。
附图说明
图1是本发明一个实施例的用于溶解干性化学品的装置的示意性的横截面视图。
图2是图1装置内部腔室壁的透视图。
图3是图1装置电网支持的详细视图。
图4是图1装置喷射器的细节。
图5示意性地示出使用图1装置制备干燥的化学品到溶液。
图6是根据本发明的另一个实施例溶解更大量化学干粉的装置的示意性横截面图。
图7是图6装置的上部腔室的透视图。
图8示出本发明一个额外实施例的喷射器和喷射器入口的替代布置。
图9是使用化学进料器后,不同的水流速下游离氯浓度(FAC)的曲线图。
详细说明
图1示出了根据本发明的一个实施例的用于溶解干化学品的装置(化学进料器1)。进料器1具有下壳体2和上壳体3。(进料器1的组件,包括壳体2、3,为圆柱型。本发明的替代实施例中可以具有圆柱以外的形状。)下壳体2有一个外壁11,一个上板12和一个基底17,外侧壁从所述底部向上延伸到所述上板。在一个实施例中,基底17和侧壁11限定了一个空腔。
上板12有一个由网格10覆盖的中心开口。上壳体3有一侧壁13,其底部末端连接上板12并围绕网格10。侧壁13的内表面23,在侧壁13的底部末端,接近或邻近网格10的外边缘9。上壳体3有一个可拆卸的盖14,在本实施例中,盖14被固定到O形环密封的侧壁13的顶部。如图1所示,侧壁13形成的内部空间构成网格10在底部的上壳体8。
下壳体2内的壁4包围下壳体2内部的中央部分,将下壳体2的内部划分为内部腔室6和一个环形外腔7。(内部腔室6位于基底17和侧壁11限定的空腔内。)壁4的底部与基底17连接。 壁4高度基本上等于外侧壁11的内部高度,除壁的顶部有一个切口5。
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