[发明专利]曝光装置有效
申请号: | 201180044697.7 | 申请日: | 2011-08-16 |
公开(公告)号: | CN103210344A | 公开(公告)日: | 2013-07-17 |
发明(设计)人: | 水村通伸 | 申请(专利权)人: | 株式会社V技术 |
主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337;G02F1/13 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 何欣亭;王忠忠 |
地址: | 日本神奈*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 装置 | ||
1.一种曝光装置,通过将取向材料膜的与液晶显示装置的各像元对应的部分在其宽度方向分割为2个部分并从不同的方向进行曝光,使取向材料膜进行光取向,其特征在于,具有:
第1和第2光源,射出曝光光;
掩模,形成有使来自所述第1和第2光源的曝光光透射的多个光透射区域分别排列为1列的第1光透射区域组和第2光透射区域组;以及
掩模支持部,配置在所述第1光源侧并支持所述掩模,
所述第1和第2光透射区域组在所述取向材料膜的对于所述掩模的相对的扫描方向隔离配置,多个光透射区域分别与1个像元的在宽度方向被分割的一半的区域对应,所述第1光透射区域组的光透射区域与所述第2光透射区域组的光透射区域相互之间隔开间隔排列,使得在所述扫描方向不会重叠,使来自所述第1光源和所述第2光源的曝光光在所述第1和第2光源与所述取向材料膜之间的光路上互相交叉,照射到所述取向材料膜的与各像元的各分割区域对应的区域。
2.一种曝光装置,通过将取向材料膜的与液晶显示装置的各像元对应的部分在其宽度方向分割为2个部分并从不同的方向进行曝光,使取向材料膜进行光取向,其特征在于,具有:
第1和第2光源,射出曝光光;
第1掩模,形成有使来自所述第1光源的曝光光透射的多个光透射区域配置为1列的第1光透射区域组;
第1掩模支持部,配置在所述第2光源侧并支持所述第1掩模;
第2掩模,形成有使来自所述第2光源的曝光光透射的多个光透射区域配置为1列的第2光透射区域组;以及
第2掩模支持部,配置在所述第1光源侧并支持所述第2掩模,
所述第1和第2光透射区域组的多个光透射区域分别与1个像元的在宽度方向被分割的一半的区域对应,使来自所述第1光源和所述第2光源的曝光光在所述第1和第2光源与所述取向材料膜之间的光路上互相交叉,照射到所述取向材料膜的与各像元的各分割区域对应的区域。
3.一种曝光装置,通过将取向材料膜的与液晶显示装置的各像素对应的部分按在其宽度方向相邻的每个像素从不同的方向进行曝光,使取向材料膜进行光取向,其特征在于,具有:
第1和第2光源,射出曝光光;
掩模,形成有使来自所述第1和第2光源的曝光光透射的多个光透射区域分别排列为1列的第1光透射区域组和第2光透射区域组;以及
掩模支持部,配置在所述第1光源侧并支持所述掩模,
所述第1和第2光透射区域组在所述取向材料膜的对于所述掩模的相对的扫描方向隔离配置,多个光透射区域分别与包含在所述扫描方向排列的多个像素的区域对应,所述第1光透射区域组的光透射区域与所述第2光透射区域组的光透射区域相互之间隔开间隔排列,使得在所述扫描方向不会重叠,使来自所述第1光源和所述第2光源的曝光光在所述第1和第2光源与所述取向材料膜之间的光路上互相交叉,照射到所述取向材料膜的与包含在所述扫描方向排列的多个像素的区域对应的区域。
4.一种曝光装置,通过将取向材料膜的与液晶显示装置的各像素对应的部分按在其宽度方向相邻的每个像素从不同的方向进行曝光,使取向材料膜进行光取向,其特征在于,具有:
第1和第2光源,射出曝光光;
第1掩模,形成有使来自所述第1光源的曝光光透射的多个光透射区域配置为1列的第1光透射区域组;
第1掩模支持部,配置在所述第2光源侧并支持所述第1掩模;
第2掩模,形成有使来自所述第2光源的曝光光透射的多个光透射区域配置为1列的第2光透射区域组;以及
第2掩模支持部,配置在所述第1光源侧并支持所述第2掩模,
所述第1和第2光透射区域组的多个光透射区域分别与包含在所述扫描方向排列的多个像素的区域对应,使来自所述第1光源和所述第2光源的曝光光在所述第1和第2光源与所述取向材料膜之间的光路上互相交叉,照射到所述取向材料膜的与包含在所述扫描方向排列的多个像素的区域对应的区域。
5.如权利要求1至4的任意1项所述的曝光装置,其特征在于,
来自所述第1光源的曝光光与来自所述第2光源的曝光光的交叉位置是所述第1和第2光源与所述掩模之间。
6.权利要求1至4的任意1项所记载的曝光装置,其特征在于,
来自所述第1光源的曝光光与来自所述第2光源的曝光光的交叉位置是所述掩模与所述取向材料膜之间。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社V技术,未经株式会社V技术许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201180044697.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:光学器件
- 下一篇:一种资源释放的方法和装置