[发明专利]介质烧结体及其制造方法以及介质谐振器无效
申请号: | 201180042350.9 | 申请日: | 2011-09-02 |
公开(公告)号: | CN103080041A | 公开(公告)日: | 2013-05-01 |
发明(设计)人: | 藤田聪;粕谷祐贵 | 申请(专利权)人: | 日本特殊陶业株式会社 |
主分类号: | C04B35/00 | 分类号: | C04B35/00;H01B3/12;H01P7/10 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 戚传江;穆德骏 |
地址: | 日本爱知*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 介质 烧结 及其 制造 方法 以及 谐振器 | ||
1.一种介质烧结体,包括:
作为主要成分的Ba、Nb以及Zn和Co中的至少一种;以及
作为次要成分的K和Ta;
具有0.9至1.5的在X射线衍射测量中的(111)面峰值的峰值强度p2与(310)面峰值的峰值强度p1的比率A,
具有范围从0.12至0.22°的所述(111)面峰值的半带宽C,
具有范围从2.363至2.371的所述(111)面峰值的d值D,以及
具有钙钛矿结构。
2.根据权利要求1所述的介质烧结体,其中所述介质烧结体包括Ba5Nb4O15结晶相。
3.根据权利要求1或2所述的介质烧结体,其中所述介质烧结体还包括氧化锆。
4.根据权利要求3的所述介质烧结体,其中包括的所述氧化锆小于0.3wt%。
5.根据权利要求3或4的所述介质烧结体,其中在晶粒边界面处存在所述氧化锆。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的介质烧结体,
其中所述介质烧结体包含作为构成元素的K、Ba、Nb和Ta以及Zn和Co中的至少一种,以及
其中所述构成元素的组分比基本上满足以下组分公式:(100-a)[Bau{(ZnvCo1-v)wNbx}Oδ1]-a[KyTazOδ2](0.5≤a≤25,0.98≤u≤1.03,0≤v≤1,0.274≤w≤0.374,0.646≤x≤0.696,0.5≤y≤2.5,0.8≤z≤1.2)。
7.一种制造权利要求1至6中任一项所述的介质烧结体的方法,
该方法包括在煅烧原料之后添加氧化锆,随后执行烧结。
8.一种由权利要求1至6中任一项所述的介质烧结体制备的介质谐振器。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本特殊陶业株式会社,未经日本特殊陶业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201180042350.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:数字环卫智能监控调度系统
- 下一篇:电站通风控制系统