[发明专利]用于高级氧化工艺和紫外线消毒的紫外线反应器挡板设计无效

专利信息
申请号: 201180041403.5 申请日: 2011-05-10
公开(公告)号: CN103313731A 公开(公告)日: 2013-09-18
发明(设计)人: R.沃德林;J.冯;D.Y.阿里芬;K.W.H.里姆 申请(专利权)人: 西门子私人有限公司
主分类号: A61L2/00 分类号: A61L2/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 吴俊
地址: 新加坡*** 国省代码: 新加坡;SG
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摘要:
搜索关键词: 用于 高级 氧化 工艺 紫外线 消毒 反应器 挡板 设计
【权利要求书】:

1.一种用于处理流体的反应器,包括:

容器,具有用于接收流体的入口和用于排放流体的出口;

紫外线光源,位于所述容器内;以及

挡板,具有螺旋形状,其中,所述挡板围绕所述紫外线光源延伸,并将所述流体从所述入口引导至所述出口,以提供所述流体的径向混合。

2.如权利要求1所述的反应器,其中,所述挡板包括10层。

3.如权利要求1所述的反应器,其中,所述挡板的宽度是所述容器的内壁和所述紫外线光源的表面之间间隙的约80%。

4.如权利要求1所述的反应器,其中,所述挡板包括光催化涂层,用于减少由于所述挡板而导致的紫外线能量损失的量。

5.如权利要求1所述的反应器,其中,所述挡板包括反射层,以增强所述容器内的反射率。

6.如权利要求5所述的反应器,其中,所述反射器由聚四氟乙烯制造而成。

7.如权利要求1所述的反应器,还包括位于所述容器内的另外的紫外线光源。

8.如权利要求7所述的反应器,还包括具有螺旋形状并围绕另外的紫外线光源延伸的挡板。

9.如权利要求1所述的反应器,其中,所述入口和所述出口基本垂直于所述容器的纵轴取向,并被调整成与所述螺旋挡板协作。

10.一种用于处理流体的反应器,包括:

容器,具有用于接收流体的入口和用于排放流体的出口;

紫外线光源,位于所述容器内;以及

多个分段式挡板,位于所述容器内,其中,所述挡板包括终止于垂直边缘区段的部分圆周边缘区段。

11.如权利要求10所述的反应器,其中,所述分段式挡板包括多个左分段式挡板,所述左分段式挡板具有终止于左垂直边缘的大致反向C形构造。

12.如权利要求10所述的反应器,其中,所述分段式挡板包括多个右分段式挡板,所述右分段式挡板具有终止于右垂直边缘的大致C形构造。

13.如权利要求10所述的反应器,其中,所述分段式挡板包括交替的右分段式挡板和左分段式挡板。

14.如权利要求10所述的反应器,其中,所述分段式挡板包括具有厚度约为1mm的反射涂层。

15.如权利要求10所述的反应器,包括七个分段式挡板。

16.如权利要求10所述的反应器,其中,所述分段式挡板约为2mm厚。

17.如权利要求10所述的反应器,其中,所述分段式挡板具有约为400mm直径。

18.如权利要求10所述的反应器,其中,所述分段式挡板彼此间隔开约127mm。

19.如权利要求10所述的反应器,包括四个紫外线光源。

20.如权利要求10所述的反应器,其中,所述分段式挡板由杆支撑。

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