[发明专利]流体供给装置以及使用该装置清洁薄膜的系统和方法

说明书

相关申请的交叉引用

本申请要求2010年8月19日在韩国提交的第10-2010-0080446号韩国专利申请的优先权，通过引用，该申请全部内容引入本文。

技术领域

本发明涉及一种流体供给装置以及使用该装置清洁薄膜的系统和方法。更具体的是，本发明涉及一种流体供给装置，其具有均匀并稳定地供给清洁流体以清洁位于存储流体的槽中的薄膜（例如胶卷）型板的改进结构，还涉及使用该装置清洁薄膜的系统和方法。

背景技术

例如，用于生产具有几毫米或几十毫米的膜型片的膜或辊型板（下文中称作“薄膜”）的系统实施清洁处理，以去除粘附到该辊型薄膜表面的杂质，该膜或辊型板例如地板膜或者各种功能性膜。在该膜清洁处理中，将清洁流体（例如液体）喷射到薄膜表面以去除粘附到该薄膜表面的杂质。

图1是表示常规薄膜清洁系统的示意图。图2是表示对应于图1系统中的喷嘴管每个孔的流体流速的曲线图。

参照图1和图2，常规的薄膜清洁系统1包括设置在清洁槽2中的流体供给装置5，其浸没在浸没液体3中并且能够喷射清洁流体，从而去除浸没在该清洁槽2中储存的浸没液体3中并连续运动的薄膜4表面（上表面和/或下表面）上出现的杂质。

常规的流体供给装置5包括安装在清洁槽2中的供给管6，以从外部接收清洁流体，以及从供给管6垂直分叉的喷嘴管7，以预定压力向薄膜4喷射清洁流体。该喷嘴管7是两端封闭的中空结构，并且在长度方向上具有多个孔8。薄膜4在多个辊9上滚动并以预定速度运动。从孔8中喷射出的清洁流体对与浸没液体3关联运动的薄膜4表面施加预定压力。该压力的大小足以去除薄膜4表面上出现的杂质。换句话说，喷嘴管7中形成的孔8有几分喷嘴的功能。尽管图1所示的流体供给装置5设置在薄膜上方，但该喷嘴管7也可以仅位于薄膜4下方或者位于薄膜4的上方和下方。

然而，在常规的薄膜清洁系统1中，因为用于喷射清洁流体的孔8直径比喷嘴管7小，所以从供给管6供给到喷嘴管7中的清洁流体在流经孔8时流得更快。清洁流体流速的增加使得清洁流体与清洁槽2的壁碰撞、折回，在这个过程中，清洁槽2中流体的流谱图变得复杂。这种复杂流谱图对喷嘴管7上方或下方运动的薄膜4施加了不规则的压力。如果压力偏差增大，则薄膜4会例如弯折或下垂。这种现象也就是薄膜4以折叠的状态在辊9上进入下一阶段的情况，会在薄膜4破裂时造成严重影响。

发明内容

技术问题

本发明旨在解决现有技术中存在的问题，因此本发明的目的是提供一种结构改进的流体供给装置，由于该装置将常规流体供给装置中在辊型薄膜清洁处理时只会猛烈喷射出流体的单管结构变为了双管结构，从而降低或控制最终喷射出的流体的流量或流速，由此降低施加在薄膜上的压力偏差。

本发明的另一个目的是提供一种使用该流体供给装置的薄膜清洁系统和方法。

解决方案

一方面，提供了一种流体供给装置，其包括：内管，其具有多个孔，用于分配从供给单元提供的流体；外管，其包围内管设置，并且具有多个狭缝，用于将从孔分配到其中的流体喷射到外部。

优选的是，该内管和外管的两端是封闭的，该内管和外管同轴设置，并且内管与外管的长度基本相等。在另一实施例中，该内管和外管可以非同轴设置。

换句话说，根据一个实施例的流体供给装置包括：内管，其中成行设置了多个孔；以及外管，其包围内管设置，并且具有设置在其中的多个狭缝。其中，可以适当调整内管中形成的孔之间的间隙以及外管中形成的狭缝之间的间隙，这对于本领域普通技术人员而言是容易理解的。

如果使用本实施例的流体供给装置，首先将从供给单元提供并收集在内管中的流体，在控制其流量和流速的同时，通过孔提供到外管中，并且将收集在外管中的流体通过外管中形成的狭缝释放到外管外部，从而可以适当调整最终喷射出的流体的流速和流量。

在根据本发明优选实施例的流体供给装置中，狭缝可以包括沿长度方向设置在外管任意一侧上的第一侧狭缝；以及设置在外管另一侧与该第一侧狭缝相对的第二侧狭缝。优选的是，该第一侧狭缝沿外管长度方向以规则间隔成行设置，并且该第二侧狭缝相对于外管中心对称形成。

在根据本发明优选实施例的流体供给装置中，形成在内管中的孔的排列与狭缝的排列基本垂直。因此，当第一侧狭缝和第二侧狭缝的位置穿过外管横截面的两侧时，优选将内管中形成的孔设置为穿过内管的上表面或下表面。特别是，在实施例中，内管的孔在其上表面中呈线状设置。