[发明专利]结晶状硅晶圆的纹理蚀刻液组成物及纹理蚀刻方法（2）

权利要求书

1.一种用于将结晶状硅晶圆纹理化的蚀刻组成物，包括按组成物总量计为：

0.1至20重量%的碱性化合物；

0.1至50重量%的沸点为100℃以上的环状化合物；

0.000001至10重量%的氟系界面活性剂；以及

剩余为水。

2.根据权利要求1所述的蚀刻组成物，其中该碱性化合物选自由氢氧化钾、氢氧化钠、氢氧化铵、四羟甲铵、与四羟乙铵所组成的群组中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的蚀刻组成物，其中该沸点为100℃以上的环状化合物选自由哌嗪、N-甲基哌嗪、N-乙基哌嗪、羟乙基哌嗪、N-（2-氨基乙基）哌嗪、N,N’-二甲基哌嗪、吗啉、N-甲基吗啉、N-乙基吗啉、N-苯基吗啉、N-可可基吗啉、N-（2-氨基乙基）吗啉、N-（2-氰基乙基）吗啉、N-（2-羟基乙基）吗啉、N-（2-羟基丙基）吗啉、N-乙酰基吗啉、N-甲酰基吗啉、N-甲基吗啉-N-氧化物、甲吡啶、N-甲基哌啶、3,5-二甲基哌啶、N-乙基哌啶、N-（2-羟基乙基）哌啶、N-甲基-4-哌啶酮、N-乙烯基-2-哌啶酮、N-甲基吡咯烷、N-甲基吡咯烷酮、N-乙基-2-吡咯烷酮、N-异丙基-2-吡咯烷酮、N-丁基-2-吡咯烷酮、N-叔丁基-2-吡咯烷酮、N-己基-2-吡咯烷酮、N-辛基-2-吡咯烷酮、N-苄基-2-吡咯烷酮、N-环己基-2-吡咯烷酮、N-乙烯基-2-吡咯烷酮、N-（2-羟基乙基）-2-吡咯烷酮、N-（2-甲氧基乙基）-2-吡咯烷酮、N-（2-甲氧基丙基）-2-吡咯烷酮、N-（2-乙氧基乙基）-2-吡咯烷酮、N-甲基四氢咪唑酮、二甲基四氢咪唑酮、N-（2-羟基乙基）-伸乙脲、四氢呋喃、四氢糠醇、N-甲基苯胺、N-乙基苯胺、N,N-二甲基苯胺、N-（2-羟基乙基）苯胺、N,N-双-（2-羟基乙基)苯胺、N-乙基-N-（2-羟基乙基）苯胺、N,N-二乙基-邻甲苯胺、N-乙基-N-（2-羟基乙基）-间甲苯胺、二甲基苄胺、γ-丁内酯、甲苯三唑、1,2,3-苯并三唑、1,2,3-三唑、1,2,4-三唑、3-氨基-1,2,4-三唑、4-氨基-4H-1,2,4-三唑、1-羟基苯并三唑、1-甲基苯并三唑、2-甲基苯并三唑、5-甲基苯并三唑、苯并三唑-5-碳酸酯、硝基苯并三唑、与2-（2H-苯并三唑-2-基）-4,6-二-叔丁基酚所组成的群组中的一种或多种。

4.根据权利要求1所述的蚀刻组成物，其中该氟系界面活性剂选自由包括全氟烷基羧酸酯、全氟烷基磺酸酯、全氟烷基硫酸酯、与全氟烷基磷酸酯的阴离子性氟系界面活性剂；包括全氟烷基胺与全氟烷基季铵的阳离子性氟系界面活性剂；包括全氟烷基羧基甜菜碱与全氟烷基磺基甜菜碱的两性离子性氟系界面活性剂；及（包括氟烷基聚氧乙烯与全氟烷基聚氧乙烯的非离子性氟系界面活性剂所组成的群组中的一种或多种。

5.根据权利要求1所述的蚀刻组成物，其中该环状化合物具有150℃至400℃的沸点。

6.一种将结晶状硅晶圆蚀刻的方法，其使用权利要求1至5中任一项所述的蚀刻组成物将结晶状硅晶圆在50～100℃浸渍或喷雾30秒～60分钟。