[发明专利]环状光学装置

权利要求书

1.一种环状光学装置(100)，包括：

环状中间光学装置(1)，所述环状中间光学装置包括以旋转轴线(A)为中心的环(11)；和

辅助光学结构(2)，所述辅助光学结构基本上同轴地位于环状中间光学装置(1)的环(11)内，其中辅助光学结构(2)和环状中间光学装置(1)被具有低于辅助光学结构的折射率的介质折射率的介质(12)分隔开，辅助光学结构(2)配置成保持样本以被基本上沿着旋转轴线(A)引导到辅助光学结构(2)中的入射电磁辐射照射，其中来自辅助光学结构(2)且在环状中间光学装置(1)的环(11)内的被散射的辐射在所述被散射的辐射的入射角超过预定入射阈值的情况下被允许通过辅助光学结构(2)进入到环状中间光学装置(1)中，以及其中环状中间光学装置(1)使被散射的辐射改变方向以包括基本上平行于旋转轴线(A)的被改变方向的辐射。

2.根据权利要求1所述的环状光学装置(100)，其中，环状中间光学装置(1)中所接收到的被散射的辐射基本上从环状中间光学装置(1)的焦线(7)径向发散，而与入射电磁辐射与旋转轴线(A)的角度间隔无关。

3.根据权利要求1所述的环状光学装置(100)，其中，所述被散射的辐射被环状中间光学装置(1)接收并基本上沿着旋转轴线(A)被改变方向，其中被改变方向的辐射从环状中间光学装置(1)的平面环状光学表面(1d)出射。

4.根据权利要求1所述的环状光学装置(100)，其中，在入射角小于预定入射阈值的情况下，被散射的辐射被辅助光学结构(2)内部地改变方向，且不能穿入到环状中间光学装置(1)中。

5.根据权利要求1所述的环状光学装置(100)，其中，辅助光学结构(2)包括能透射辐射的封闭端(2c)，所述封闭端配置成允许所述入射电磁辐射进入。

6.根据权利要求1所述的环状光学装置(100)，其中，辅助光学结构(2)包括围绕环状中间光学装置(1)的焦线(7)的至少一个能透射辐射的区域。

7.根据权利要求1所述的环状光学装置(100)，还包括辐射阻挡结构(4)，所述辐射阻挡结构定位在辅助光学结构(2)的至少一部分之上或并入到所述至少一部分中，其中所述辐射阻挡结构(4)防止辐射离开辅助光学结构(2)。

8.根据权利要求1所述的环状光学装置(100)，还包括辐射阻挡结构(4)，所述辐射阻挡结构定位在辅助光学结构(2)的至少一部分之上或并入到所述至少一部分中，并且至少部分地从环状中间光学装置(1)的平面环状光学表面(1d)延伸出来。

9.根据权利要求1所述的环状光学装置(100)，还包括辐射阻挡结构(4)，所述辐射阻挡结构定位在辅助光学结构(2)的至少一部分之上或并入到所述至少一部分中，并且使辅助光学装置(2)在环状中间光学装置(1)的环(11)内基本上居中。

10.一种形成环状光学装置的方法，所述方法包括以下步骤：

设置环状中间光学装置，所述环状中间光学装置包括以旋转轴线为中心的环；和

设置辅助光学结构，所述辅助光学结构基本上同轴地位于所述环状中间光学装置的环内，其中所述辅助光学结构和所述环状中间光学装置被具有低于辅助光学结构的折射率的介质折射率的介质分隔开，辅助光学结构配置成保持样本以被基本上沿着旋转轴线引导到辅助光学结构中的入射电磁辐射照射，其中来自辅助光学结构且在环状中间光学装置的环内的被散射的辐射在所述被散射的辐射的入射角超过预定入射阈值的情况下被允许通过辅助光学结构进入到环状中间光学装置中，以及其中环状中间光学装置使被散射的辐射改变方向以包括基本上平行于旋转轴线的被改变方向的辐射。

11.根据权利要求10所述的方法，其中，环状中间光学装置中所接收到的被散射的辐射基本上从环状中间光学装置的焦线径向发散，而与入射电磁辐射与旋转轴线的角度间隔无关。

12.根据权利要求10所述的方法，其中，所述被散射的辐射被环状中间光学装置接收并基本上沿着旋转轴线被改变方向，其中被改变方向的辐射从环状中间光学装置的平面环状光学表面出射。

13.根据权利要求10所述的方法，在入射角小于预定入射阈值的情况下，被散射的辐射被辅助光学结构内部地改变方向，且不能穿入到环状中间光学装置中。