[发明专利]氧化铈系研磨材料的再生方法有效

专利信息
申请号: 201180037945.5 申请日: 2011-06-24
公开(公告)号: CN103079764A 公开(公告)日: 2013-05-01
发明(设计)人: 姜佑圭;金元烈;宋永春;黄光泽 申请(专利权)人: RANCO株式会社
主分类号: B24B57/00 分类号: B24B57/00;B24C9/00;C09K3/14
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 韩明星;全成哲
地址: 韩国忠清*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 氧化 研磨 材料 再生 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及氧化铈系研磨材料的再生方法,尤其涉及可从包含氧化铈系研磨材料、玻璃熔块、研磨垫及无机凝聚剂的研磨废弃物中环保地再生出高纯度的氧化铈系研磨材料的氧化铈系研磨材料的再生方法。

背景技术

以氧化铈(CeO2)作为主成分的氧化铈系研磨材料用于各种玻璃材料的研磨。最近又用于硬盘等磁记录介质用玻璃、液晶显示器(Liquid Crystal Display;以下称为“LCD”)的玻璃基板、等离子显示板(Plasma Display Panel;以下称为“PDP”)的玻璃基板之类的玻璃材料的研磨中,其应用领域逐渐扩大。

通常,在利用氧化铈系研磨材料研磨LCD或PDP的玻璃基板之类的玻璃材料时,利用通过研磨用粉末喷嘴向玻璃材料喷射氧化铈系研磨材料而进行研磨的喷砂(Sand Blast)工艺或利用辊子(role)的浮动滚压(role floating)工艺。

在使用氧化铈系研磨材料的喷砂工艺或浮动滚压工艺中将生成研磨废弃物,这种研磨废弃物中存在原来包含于氧化铈系研磨材料、玻璃材料中的玻璃熔块(frit glass)成分及研磨垫成分之类的不纯物。所述氧化铈系研磨材料约占10~60wt%,所述玻璃熔块以与所述氧化铈系研磨材料以粉末状混合在一起的状态存在,或以吸附于氧化铈系研磨材料表面的状态存在。所述玻璃熔块的主成分为SiO2

最近对LCD和PDP之类显示器的需求剧增,从而氧化铈系研磨材料的使用量也有剧增的趋势,研磨废弃物的产生量剧增也是实情。由于含有这种氧化铈系研磨材料的研磨废弃物被全数废弃,因而这也成为引发环境污染的原因。

处理研磨废弃物的通常的方法为,将包含研磨工序已完毕的氧化铈系研磨材料的研磨废弃物浆液送往净化装置,在净化装置中添加铝(Al)系或铁(Fe)系凝聚剂以使固相颗粒沉淀而进行固形化,并将所排出的液体进行化学处理而排放,固形化的研磨废弃物则予以全数废弃。

然而,为了研磨玻璃材料需要大量氧化铈系研磨材料,最近又有氧化铈系研磨材料的价格上升趋势,氧化铈系研磨材料却几乎不在国内(韩国)生产而几乎全部依赖于进口也是实情。因此,再生出氧化铈系研磨材料的必要性开始显现,然而尽管存在其再生的必要性,至今为止却几乎没有进行对氧化铈系研磨材料再生方法的研究。

韩国专利申请第10-2005-0037510号涉及根据湿式比重分选法的布朗管研磨材料浆液的再利用法,其公开了根据湿式比重分选法分离并再利用布朗管研磨材料浆液的方法,然而是一种以不同于LCD用玻璃板研磨材料的组成分别分离回收成分的技术。

韩国专利申请第10-2006-0103546号涉及用于显示器用玻璃板的研磨的废研磨材料的再生方法,其公开了分离显示器用研磨材料浆液并添加金属氧化物而进行烧结和粉碎分级的方法,然而作为一种对于研磨材料浆液,将金属氧化物作为烧结助剂添加并进行烧结和粉碎的技术,具有工艺复杂而能量消耗较多的缺点。

发明内容

技术问题

本发明的目的在于提供一种可从包含氧化铈系研磨材料、玻璃熔块、研磨垫及无机凝聚剂的研磨废弃物中环保地再生出氧化铈系研磨材料,且能够获得高纯度的氧化铈系研磨材料,并具有非常高的收率的氧化铈系研磨材料再生方法。

技术方案

本发明提供一种氧化铈系研磨材料的再生方法,该方法为从包含氧化铈系研磨材料、玻璃熔块、研磨垫及无机凝聚剂的研磨废弃物中再生出氧化铈系研磨材料的方法,其特征在于,包括如下步骤:将不与所述氧化铈系研磨材料反应生成盐的有机酸溶液和所述研磨废弃物添加于反应槽而搅拌,以根据基于所述有机酸的酸处理,使所述无机凝聚剂变成根离子,使所述玻璃熔块及所述研磨垫浮游;除去浮游的所述玻璃熔块及所述研磨垫;执行清洗及干燥工序而得到氧化铈系研磨材料,其中,所述有机酸的pH为0.5~6范围。

所述氧化铈系研磨材料再生方法还可以包括如下超声波处理步骤:用设置于所述反应槽内的搅拌机进行搅拌的同时通过设置于所述反应槽内的超声波喇叭施加超声波;根据所述超声波,促进所述有机酸与所述无机凝聚剂的化学反应,并使根据所述超声波而产生的气泡剧烈膨胀,从而因高度的压力在其临界点爆裂,而气泡爆裂时的冲击波作用于所述研磨废弃物,从而将附于氧化铈系研磨材料表面的玻璃熔块和研磨垫从氧化铈系研磨材料表面剥离。

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