[发明专利]适应性遮光、显示和颜色控制无效
申请号: | 201180036436.0 | 申请日: | 2011-06-10 |
公开(公告)号: | CN103025991A | 公开(公告)日: | 2013-04-03 |
发明(设计)人: | P·金;J·艾森贝格;J·瓦伦加 | 申请(专利权)人: | 哈佛大学校长及研究员协会 |
主分类号: | E06B9/24 | 分类号: | E06B9/24;G02B26/02 |
代理公司: | 北京万慧达知识产权代理有限公司 11111 | 代理人: | 戈晓美;杨颖 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 适应性 遮光 显示 颜色 控制 | ||
1.一种遮光系统,其包括:
基底;
第二材料,所述第二材料具有不同于所述基底的折射率并且形成多个褶皱,所述第二材料在所述基底的一个区域上或嵌入所述基底的一个区域内;以及
拉伸装置,所述拉伸装置用于可逆地拉伸所述基底和所述第二材料并且用于减小所施加的伸长率;
其中所述拉伸装置能够通过随所施加的应变的变化改变所述褶皱的取向来控制光透射的量;
其中当所述褶皱中的一些褶皱是大致上平行于所述拉伸方向来定向并且所述褶皱中的一些褶皱是大致上垂直于所施加的应变方向来定向时,所述遮光系统是透明的。
2.如权利要求1所述的遮光系统,其中
增加所施加的应变减少了穿过所述遮光系统的光透射,并且减小所施加的应变增加了穿过所述遮光系统的光透射。
3.如权利要求1所述的遮光系统,其中
增加所施加的应变增加了穿过所述遮光系统的光透射,并且
减小所施加的应变减少了穿过所述遮光系统的光透射。
4.如权利要求1所述的遮光系统,其中所述基底包含聚二甲基硅氧烷或聚氨酯。
5.如权利要求1所述的遮光系统,其中所述第二材料包含所述基底的被氧化区域。
6.如权利要求1所述的遮光系统,其中所述遮光系统通过形成大致上平行于所施加的应变方向来定向的所述褶皱而变得不透明。
7.如权利要求1所述的遮光系统,其中所述基底包含聚二甲基硅氧烷并且所述第二材料包含SiOx。
8.如权利要求1所述的遮光系统,其中所述拉伸装置施加应变并且根据一种或多种环境变化、气压致动、所施加的磁场或所施加的电场来减小所施加的应变。
9.如权利要求8所述的遮光系统,其中所述一种或多种环境变化包括温度、湿度或光强度的变化。
10.一种显示器,其包括:
基底;和
第一区域,所述第一区域在所述基底上或嵌入所述基底内的,所述基底包含具有不同于所述基底的折射率并且形成多个褶皱的第二材料;
其中所述显示器能够通过随所施加的应变的变化改变所述多个褶皱的取向来控制穿过所述第一区域的光透射的量,以便显示所需信息;
其中当所述褶皱中的一些褶皱是大致上平行于所述拉伸方向来定向并且所述褶皱中的一些褶皱是大致上垂直于所施加的应变方向来定向时,所述显示器的所述第一区域是透明的。
11.如权利要求10所述的显示器,其中
增加所施加的应变增加了穿过所述第一区域的光透射,并且
减小所施加的应变减少了穿过所述第一区域的光透射。
12.如权利要求11所述的显示器,其进一步包括:
第二区域,所述第二区域包含具有不同于所述基底的折射率的同种第二材料或不同种第二材料;
其中增加所施加的应变减少了穿过所述第二区域的光透射,并且
减小所施加的应变增加了穿过所述第二区域的光透射。
13.如权利要求10所述的显示器,其中
增加所施加的应变减少了穿过所述第一区域的光透射,并且
减小所施加的应变增加了穿过所述第一区域的光透射。
14.如权利要求13所述的显示器,其进一步包括:
第二区域,所述第二区域包含具有不同于所述基底的折射率的同种第二材料或不同种第二材料;
其中增加所施加的应变增加了穿过所述第二区域的光透射,并且
减小所施加的应变增加了穿过所述第二区域的光透射。
15.如权利要求10所述的显示器,其中所述基底包含聚二甲基硅氧烷或聚氨酯。
16.如权利要求10所述的显示器,其中所述第二材料包含所述基底的被氧化区域。
17.如权利要求10所述的显示器,其中所述第一区域通过形成大致上平行于所施加的应变方向来定向的所述褶皱而变得不透明。
18.如权利要求10所述的显示器,其中所述弹性体材料包含聚二甲基硅氧烷并且所述第二材料包含SiOx。
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