[发明专利]用于产生等离子体的电极、具有该电极的等离子体室和用于原位分析或原位处理层或等离子体的方法

权利要求书

1.用于在等离子体室中产生等离子体的rf电极，

其特征在于至少一个光学通孔。

2.根据权利要求1的电极，

其特征在于，所述光学通孔大到使得能够穿过rf电极地执行原位拉曼光谱分析或光学发射光谱分析。

3.根据上述权利要求之一的电极，

其特征在于光学通孔的圆锥形截面。

4.根据权利要求3的电极，

其中通孔的两个开口中较小的一个具有0.03cm²至5cm²的面积。

5.根据权利要求3和4之一的电极，

其中通孔的两个开口中较大的一个具有0.031cm²至100cm²的面积。

6.根据上述权利要求之一的电极，

其特征在于，光学通孔的开口具有屏蔽装置。

7.根据权利要求6的电极，

其特征在于作为光学通孔的屏蔽装置的金属栅格，该金属栅格设置在光学通孔的所述开口上。

8.根据上述权利要求之一的电极，

其特征在于汇聚透镜。

9.根据权利要求8的电极，

其特征在于，在汇聚透镜与光学通孔的开口之间设置玻璃板以保护汇聚透镜免受等离子体室中的气体。

10.等离子体室，包括rf电极和具有用于容纳衬底的衬底固定器的反电极，其中在rf电极和反电极之间能够构成用于产生等离子体的高频交变场，

其特征在于根据上述权利要求之一的rf电极。

11.根据权利要求10的等离子体室，

其特征在于根据权利要求1至7之一的rf电极，其中设置在等离子体室中的凸形汇聚透镜将电磁辐射通过光学通孔聚焦到层或等离子体上，并且穿过光学通孔散射或反射的或由层或等离子体发射的辐射被平行化并被输送到分析设备，以用于分析所散射或反射或发射的辐射的目的。

12.根据权利要求11的等离子体室，

其特征在于在等离子体室的射线光路中可移动的汇聚透镜。

13.用于在根据权利要求10-12之一的等离子体室中对层或等离子体进行原位分析或原位处理的方法，其中该层设置在反电极上并且在朝向层的一侧上设置rf电极，

其特征在于选择根据权利要求1至9之一的rf电极，并且其特征在于至少一个步骤，在所述步骤中电磁辐射从等离子体室通过rd电极的光学通孔被输送到分析设备。

14.根据权利要求13的方法，

其特征在于，进行生长层的原位拉曼光谱分析或等离子体的光学发射光谱分析，其中电磁辐射经由汇聚透镜被输送到分析设备。

15.根据上述权利要求之一的电极、等离子体室或方法，

其特征在于气体喷头作为rf电极或选择气体喷头作为rf电极。

16.根据权利要求15的电极、等离子体室或方法，

其特征在于，在气体喷头中设置多于一个气体分发板。

17.根据权利要求15和16之一的电极、等离子体室或方法，

其中圆锥形漏斗气密地作为气体喷头的光学通孔的衬里。