[发明专利]荧光X射线分析装置及方法

权利要求书

1.一种荧光X射线分析装置，其包括：

试样台，载置具有结晶构造的试样；

X射线源，对试样照射一次X射线；

检测机构，检测从试样产生的二次X射线；

旋转机构，使该试样台以垂直于试样测定面的轴为中心旋转；

平行移动机构，在该旋转机构停止的状态下，使该试样台平行移动，以使一次X射线照射在试样测定面的一半的任意位置；

控制机构，将以下衍射图案显示在显示机构，并存储该衍射图案，该衍射图案为一面通过该旋转机构使试样绕着试样的既定点旋转360°，一面从该X射线源照射一次X射线，使从试样产生而入射到该检测机构的二次X射线的强度与试样的旋转角度相对应；以及

选择机构，测定者根据显示在该显示机构的衍射图案，来选择至少3个相邻间隔为不到180°，且可回避衍射X射线的回避角度，其特征在于，

该控制机构存储由该选择机构所选择的回避角度，对应试样的测定点从该已存储的回避角度之中读出：该试样台、旋转机构以及平行移动机构不会干涉该荧光X射线分析装置的其他构造物的回避角度，由此控制该旋转机构，以将试样设定在该回避角度。

2.如权利要求1所述的荧光X射线分析装置，其中，

该显示机构将回避角度标志与存储在该控制机构的衍射图案及/或试样的测定面影像一并显示，该回避角度标志显示由该选择机构所选择的回避角度的位置。

3.一种荧光X射线分析方法，

其使用权利要求1所记载的荧光X射线分析装置，

选择至少3个相邻间隔不到180°，且可回避衍射X射线的回避角度，

针对由该控制机构设定了回避角度的试样，使其在平行于其测定面的面内移动来分析试样的测定面的整个区域。

4.如权利要求3所述的荧光X射线分析方法，其中，

在该显示机构中一并显示：回避角度标志，其显示利用该选择机构所选择的回避角度的位置；存储在该控制机构的衍射图案及/或试样的测定面影像。