[发明专利]粘合剂层、粘合薄膜以及光学设备

说明书

技术领域

本发明涉及粘合剂层、粘合薄膜以及光学设备，具体而言涉及光学设备和适合应用于该光学设备的粘合剂层和粘合薄膜。

背景技术

到目前为止，粘合薄膜在各种产业领域得到广泛地应用，其是通过将粘合剂层设置在基材的表面而得到的。

例如，提出了通过将固体成分浓度为47重量%的水分散型粘合剂组合物涂布在脱模薄膜上以后使其干燥而得到粘合剂层；该水分散型粘合剂组合物是通过将丙烯增稠剂添加到丙烯酸（酯）系共聚物的乳液中而得到的（例如，参照下述专利文献1）。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2007-248485号公报

发明内容

发明要解决的问题

然而，在光学领域等产业领域当中，有时会要求粘合剂层有优异的外观，上述专利文献1的粘合剂层有时无法得到这样优异的外观。

本发明的目的在于提供具有优异外观的粘合剂层、以及具备该粘合剂层的粘合薄膜以及光学设备。

用于解决问题的方案

本发明的粘合剂层的特征在于，其为通过涂布水分散型粘合剂组合物并使其干燥而得到的粘合剂层，在所述的粘合剂层的表面，厚度方向的深度为0.2～20μm且沿着所述表面的最大长度为1～10mm的凹部的数目为每1m²5个以下。

另外，本发明的粘合剂层当中，所述水分散型粘合剂组合物的固体成分浓度为5～32重量%、所述粘合剂层的厚度为3～100μm是合适的。

另外，本发明的粘合剂层当中，其含有水分散型丙烯酸（酯）系聚合物和增稠剂，所述水分散型粘合剂组合物在30℃、剪切速度为1秒^-1时的粘度为0.1～50Pa·s是合适的。

另外，本发明的粘合剂层当中、所述增稠剂在制备成1重量%的水溶液进而调节为pH8时的浊度为100NTU以下是合适的。

另外，本发明的粘合剂层当中、厚度为23μm的所述粘合剂层的雾度值为1.0%是合适的。

另外，本发明的粘合薄膜的特征在于，其具备基材和层叠在所述基材的表面上的粘合剂层、所述粘接剂层通过涂布水分散型粘合剂组合物并使其干燥而得到，在所述粘合剂层的表面，厚度方向的深度为0.2～20μm且沿着所述表面的最大长度为1～10mm的凹部的数目为每1m²5个以下。

另外，本发明的粘合薄膜当中所述基材为光学薄膜是合适的。

另外，本发明的光学设备的特征在于，其具备光学薄膜和层叠在所述光学薄膜的表面上的粘合剂层，所述粘接剂层通过涂布水分散型粘合剂组合物并使其干燥而得到，在所述的粘合剂层的表面，厚度方向的深度为0.2～20μm且沿着所述表面的最大长度为1～10mm的凹部的数目为每1m²5个以下。

发明的效果

本发明的粘合剂层具有优异的外观，具备其的本发明的粘合薄膜作为外观优异的薄膜可以应用到各种产业用途中。

特别是，具备上述本发明的粘合薄膜的本发明的光学设备能够确保优异的光学特性。

附图说明

图1表示说明本发明的粘合剂层的一个实施方式的制造方法的工序图，（a）为准备脱模薄膜的工序，（b）为在脱模薄膜的表面上形成由水分散型粘合剂组合物形成的涂布液层的工序，（c）为使涂布液层干燥而形成粘合剂层的工序。

图2表示说明脱模薄膜的背面和支撑构件的表面之间存在异物的情况下的、实施例1的粘合剂层的制造方法的工序图，（a）为在背面存在异物的脱模薄膜的表面上形成涂布液层的工序，（b）为脱模薄膜从支撑构件分离的工序，（c）为使涂布液层干燥而形成粘合剂层的工序。

图3表示说明脱模薄膜的背面和支撑构件的表面之间存在异物的情况下的、比较例1的粘合剂层的制造方法的工序图，（a）为在背面存在异物的脱模薄膜的表面上形成涂布液层的工序，（b）为脱模薄膜从支撑构件分离的工序，（c）为使涂布液层干燥而形成粘合剂层的工序。

图4表示本发明的粘合薄膜的一个实施方式的粘合型光学薄膜的剖面图。

图5表示说明图1所表示的粘合剂层的制造方法的工序图，（a）为准备层叠有底涂层的光学薄膜的工序，（b）为在底涂层的表面上形成由水分散型粘合剂组合物形成的涂布液层的工序，（c）为使涂布液层干燥而形成粘合剂层的工序。

图6表示实施例1的粘合剂层的TEM照片的图像处理图。