[发明专利]β 型赛隆的制备方法有效

专利信息
申请号: 201180027981.3 申请日: 2011-07-04
公开(公告)号: CN102933683A 公开(公告)日: 2013-02-13
发明(设计)人: 竹田豪;桥本久之;江本秀幸;山田铃弥 申请(专利权)人: 电气化学工业株式会社
主分类号: C09K11/08 分类号: C09K11/08;C09K11/64;H01L33/50
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 杨黎峰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 型赛隆 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种β型赛隆的制备方法,其具有对原料粉末进行烧成的烧成工序,所述β型赛隆用通式:Si6-zAlzOzN8-z:Eu表示,其中,

在所述原料粉末中,Al含量为0.3~1.2质量%,O含量为0.15~1质量%,O/Al摩尔比为0.9~1.3,Si含量为58~60质量%,N含量为37~40质量%,N/Si摩尔比为1.25~1.45,以及Eu含量为0.3~0.7质量%,

所述烧成工序是在氮化气氛中,于1850~2050℃的温度范围对所述原料粉末进行烧成的烧成工序,

制备出的β型赛隆在CIExy色度坐标中显示为0.280≤x≤0.340、0.630≤y≤0.675。

2.根据权利要求1所述的β型赛隆的制备方法,其中,所述原料粉末的一部分或全部是β型赛隆,并且该原料粉末对455nm的激发波长的吸光率为40%以上。

3.根据权利要求1或2所述的β型赛隆的制备方法,其中,所述原料粉末的粒度为,D50在1μm以上至12μm以下,并且D90在20μm以下。

4.根据权利要求1或2所述的β型赛隆的制备方法,其中,在测定所述原料粉末的电子自旋共振光谱时,与25℃下的g=2.00±0.02的吸收对应的自旋密度为9.0×1017个/g以下。

5.根据权利要求1或2所述的β型赛隆的制备方法,其中,在所述烧成工序后具有退火工序,该退火工序是如下退火工序中的一者或两者:即在真空中于1200℃以上至1550℃以下的温度范围进行热处理的退火工序;或者在氮气分压为10kPa以下的以氮气之外的气体为主要成分的惰性气氛中、于1300℃以上至1600℃以下的温度范围进行热处理的退火工序。

6.根据权利要求1或2所述的β型赛隆的制备方法,其中,在所述烧成工序后或所述退火工序后设置酸处理工序,在该酸处理工序中,使所述β型赛隆含浸在65℃以上的含有HF和HNO3的水溶液中。

7.根据权利要求3所述的β型赛隆的制备方法,其中,在测定所述原料粉末的电子自旋共振光谱时,与25℃下的g=2.00±0.02的吸收对应的自旋密度为9.0×1017个/g以下。

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