[发明专利]光纤双折射补偿镜及电流传感器有效

专利信息
申请号: 201180026083.6 申请日: 2011-05-25
公开(公告)号: CN102906629A 公开(公告)日: 2013-01-30
发明(设计)人: 今野良博;佐佐木胜 申请(专利权)人: ADAMANT工业株式会社
主分类号: G02B27/28 分类号: G02B27/28;G01R15/24
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 张晶;经志强
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光纤 双折射 补偿 电流传感器
【权利要求书】:

1.一种光纤双折射补偿镜,其特征在于,包括:光纤、双折射元件、透镜、磁铁、法拉第旋光器以及镜子;所述法拉第旋光器通过外加由所述磁铁产生的磁场被磁饱和而具有45度法拉第旋转角;

所述双折射元件、所述法拉第旋光器以及所述镜子各部件从所述光纤的光出入射端面开始以所述双折射元件、所述法拉第旋光器以及所述镜子的顺序被配置;

所述光纤为单模型;

沿所述光纤内传播过来的光,其在所述双折射元件中被分离为互相垂直的寻常光和非常光两束直线偏振光,通过所述透镜被聚光;

进一步,所述两束直线偏振光通过透过所述法拉第旋光器,其各自的偏振面旋转45度,并且在所述镜子表面上的一点上被点对称地反射;

被反射的所述两束直线偏振光,通过再次透过所述法拉第旋光器,所述两束直线偏振光的偏振面再旋转45度;

接着,所述两束直线偏振光通过再次入射到所述双折射元件,再合并为一束光,所述再合并后的光入射到所述光纤中。

2.如权利要求1所述的光纤双折射补偿镜,其特征在于,所述双折射元件中所述非常光的位移量为所述光纤的模场直径的2倍以上。

3.一种光纤双折射补偿镜,其特征在于,包括:光纤、第一双折射元件、第二双折射元件、透镜、磁铁、法拉第旋光器以及镜子;所述法拉第旋光器通过外加由所述磁铁产生的磁场被磁饱和而具有45度法拉第旋转角;

所述第一双折射元件、所述第二双折射元件、所述法拉第旋光器以及所述镜子各部件从所述光纤的光出入射端面开始以所述第一双折射元件、所述第二双折射元件、所述法拉第旋光器以及所述镜子的顺序被配置;

所述光纤为单模型;

所述第二双折射元件的光学表面上晶轴方向被设定为与所述第一双折射元件的光学表面上的晶轴方向相差90度;

沿所述光纤内传播过来的光,在所述第一双折射元件中被分离为互相垂直的寻常光和非常光两束直线偏振光;

透过所述第一双折射元件的所述两束直线偏振光,其在透过所述第二双折射元件时,以寻常光透过所述第一双折射元件的光以非常光透过,同时以非常光透过所述第一双折射元件的光以寻常光透过,通过所述透镜被聚光;

对于透过所述第一双折射元件时的所述非常光和透过所述第二双折射元件时的所述非常光,各位移量被设定为相同;

进一步,所述两束直线偏振光通过透过所述法拉第旋光器,其各自的偏振面旋转45度,并且在所述镜子表面上的一点上被点对称地反射;

被反射的所述两束直线偏振光,通过再次透过所述法拉第旋光器,所述两束直线偏振光的偏振面再旋转45度;

接着,透过所述法拉第旋光器的所述两束直线偏振光,其在透过所述第二双折射元件时,只有一束直线偏振光被位移;

进一步,所述两束直线偏振光再次入射到所述第一双折射元件中,当透过所述第二双折射元件的所述两束直线偏振光透过所述第一双折射元件时,以寻常光透过所述第二双折射元件的光以非常光透过,同时以非常光透过所述第二双折射元件的光以寻常光透过,以此只有一束直线偏振光被位移,所述两束直线偏振光再合并为一束光;

所述再合并后的光入射到所述光纤中。

4.如权利要求3所述的光纤双折射补偿镜,其特征在于,所述第一双折射元件中的所述非常光的位移量与所述第二双折射元件中的所述非常光的所述位移量之和为所述光纤的模场直径的2倍以上。

5.如权利要求3或4所述的光纤双折射补偿镜,其特征在于,透过所述第二双折射元件时被分离为寻常光和非常光所产生的所述两束直线偏振光之间的光程差,被设定为与透过所述第一双折射元件时被分离为所述寻常光和所述非常光所产生的所述两束直线偏振光之间的光程差相等。

6.一种电流传感器,其特征在于,如权利要求1~权利要求5中任意一项所述的光纤双折射补偿镜的所述光纤,光学地连接在电流流动的导体上设置的电流传感器的传感器用光纤上,所述电流传感器对流过所述导体的电流进行测量。

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