[发明专利]折射率分布测量方法和折射率分布测量装置有效
| 申请号： | 201180024878.3 | 申请日： | 2011-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN102918373A | 公开（公告）日： | 2013-02-06 |
| 发明（设计）人： | 杉本智洋 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02;G01M11/00;G01N21/45 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 罗银燕 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 折射率 分布 测量方法 测量 装置 | ||
1.一种折射率分布测量方法，包括以下步骤：
通过将基准光引入到被布置在折射率与测试对象的折射率不同的介质中的测试对象中来测量测试对象的透过波面；以及
通过使用透过波面的测量结果来计算测试对象的折射率分布，
其中，测量步骤测量对于第一波长的第一透过波面和对于与第一波长不同的第二波长的第二透过波面，以及
其中，计算步骤通过利用第一透过波面和第二透过波面的测量结果以及被布置在所述介质中的基准对象的对于第一波长和第二波长中的每一个的透过波面来去除测试对象的形状成分，计算测试对象的折射率分布，基准对象具有与测试对象相同的形状和特定的折射率分布。
2.根据权利要求1所述的折射率分布测量方法，其中，测量步骤使用剪切干涉计来测量测试对象的透过波面。
3.根据权利要求1所述的折射率分布测量方法，其中，测量步骤使用Hartman传感器来测量测试对象的透过波面。
4.一种光学元件的生产方法，包括以下步骤：
使光学元件成型；以及
通过使用根据权利要求1至3中任一项所述的折射率分布测量方法测量光学元件的折射率分布来评价成型的光学元件。
5.一种折射率分布测量装置，包括：
光源，被配置为发射具有第一波长的光和具有第二波长的光；
测量单元，被配置为通过使用来自光源的光，测量被布置在折射率与测试对象的折射率不同的介质中的测试对象的透过波面；以及
操作单元，被配置为基于对于第一波长测量的第一透过波面和对于第二波长测量的第二透过波面来计算测试对象的折射率分布，
其中，操作单元通过利用第一透过波面和第二透过波面的测量结果以及被布置在所述介质中的基准对象的对于第一波长和第二波长中的每一个的透过波面来去除测试对象的形状成分，计算测试对象的折射率分布，基准对象具有与测试对象相同的形状和特定的折射率分布。
6.根据权利要求5所述的折射率分布测量装置，其中，所述测量单元包括剪切干涉计。
7.根据权利要求5所述的折射率分布测量装置，其中，所述测量单元包括Hartman传感器。
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