[发明专利]高纯度氢氧化铝的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及高纯度氢氧化铝的制造方法，更详细地说，是在拜尔工序（Bayer Process）之前，将普通的氢氧化铝溶解于氢氧化钠（NaOH）溶液中后，将溶解的液体进行熟成之后，使用少量的吸附剂选择性地只将熟成的溶液中的杂质进行去除来制造高纯度的氢氧化铝，从而解除以往的制造方法在拜尔工序之前，利用氢氧化铝进行共沉淀工序将溶解的液体中存在的杂质与氢氧化铝一同进行共沉淀，减少在此期间因为发生的产品的过度损失、废弃物的发生及非效率性导致的商用化的困难，并且可以缩减成本且以环保的方法制造高品质的高纯度氢氧化铝的高纯度氢氧化铝的制造方法。

背景技术

近年来，高纯度氢氧化铝，使用于特殊陶瓷、用于生产IC的高纯度玻璃、光学玻璃、高纯度铝化合物及高纯度氧化铝原料等。近年来，作为LED TV等的LED产品相关的化合物而备受瞩目。

为了制造如上所述的高纯度氢氧化铝，在化合物的制造工序中必须要经过拜尔工序（Bayer Process），这种拜尔工序（Bayer Process）是为了提取铝土矿（Bauxite）中存在的氢氧化铝，而将铝土矿放入氢氧化钠（NaOH）溶液中进行加热，来溶出氢氧化铝后（溶解工序），扔掉污泥，并沉淀出溶解于所述氢氧化钠溶液中的氢氧化铝的方法（沉淀工序）。

通过这种拜尔工序生产的氢氧化铝，因为溶解工序中投入的铝土矿中流入的杂质与所述拜尔工序时使用的副原料的残留物，导致会含有大量的杂质。

因此，只通过通常的拜尔工序，无法制造出一定纯度以上的高纯度氢氧化铝。因此，以往为了去除杂质使用过，将氢氧化铝溶解于酸（Acid）后，利用Isodecanol、Kerosene等的有机溶剂来去除金属离子的一些方法。但是，这种杂质的去除方法存在操作困难，且需要使用昂贵的溶剂萃取剂以及环境污染等的问题。

此外，还会使用利用铝（Al）金属来制造的方法，但这也存在着因为制造成本高昂而导致是否可以商用化的不透明性，且实际上，高纯度氢氧化铝的制造方法作为非公开的专有技术，处于全世界只有在1~2个企业中商品化的情况。

发明内容

（要解决的技术问题）

本发明是为了解决如上所述的技术问题而创出的，其目的在于提供高纯度氢氧化铝的制造方法，将普通的氢氧化铝溶解于氢氧化钠（NaOH）溶液中后，将此溶解的液体进行熟成（此处使用的术语中，“熟成”是指在溶解的状态下增大颗粒），来活性化杂质后，利用浆材质的吸附剂来吸附溶解的液体中存在的杂质后，通过过滤来有效地精制溶解的液体，并利用拜尔工序（Bayer Process）在此精制的液体中沉淀出高纯度氢氧化铝，由此来以低成本、环保的方法量产高纯度氢氧化铝。

此外，本发明的目的在于提供高纯度氢氧化铝的制造方法，即在制造高纯度氢氧化铝时，通过开发作为重要条件的工序母液的重量比、熟成时间、吸附剂的量、搅拌速度、吸附时间、沉淀温度及沉淀时间等的最佳条件来制造具有99.9以上纯度的高纯度氢氧化铝。

（解决问题的手段）

根据本发明的高纯度氢氧化铝的制造方法的优选的一实施例，包括：溶解普通氢氧化铝后，进行熟成的母液的准备步骤；在所述母液的准备步骤之后，添加浆来从准备好的母液中吸附杂质的精制步骤；在所述精制步骤之后，母液中投入种子来进行沉淀后，将沉淀的物质进行过滤、洗涤及干燥来获得高纯度氢氧化铝的获取步骤。

此处，所述母液的准备步骤，可以包括：溶解工序，将普通氢氧化铝与氢氧化钠（NaOH）投入溶解槽，来制造溶解所述普通氢氧化铝的母液；熟成工序，使通过所述溶解工序溶解的母液的温度在规定的熟成时间期间缓慢地降低，并熟成杂质。

根据本发明的高纯度氢氧化铝的制造方法的其他实施例，包括：溶解工序，将氢氧化钠（NaOH）与普通氢氧化铝投入溶解槽，来制造溶解普通氢氧化铝的母液；熟成工序，在所述溶解工序之后，经过规定时间来使母液的温度缓慢地降低并熟成杂质；精制工序，在经过所述熟成工序熟成的母液中添加并分散浆质的吸附剂，来使母液中的杂质吸附于吸附剂上；第一次过滤工序，在所述精制工序完毕之后，在分离吸附有杂质的所述浆的同时，过滤母液后送到沉淀槽的；沉淀工序，在所述第一次过滤工序之后，向所述沉淀槽的母液中投入氢氧化铝种子来沉淀出氢氧化铝；分极工序，在所述沉淀工序之后，分离粒子大小小的沉淀物与粒子大小大的沉淀物；第二次过滤工序，过滤在所述分极工序中含有粒子大小大的沉淀物的母液，并将过滤液投入到所述氢氧化钠溶液中进行再循环；干燥工序，洗涤通过所述第二次过滤工序过滤的沉淀物之后，去除水分。