[发明专利]线栅型偏振器的制造方法和液晶显示装置无效
申请号: | 201180018560.4 | 申请日: | 2011-04-18 |
公开(公告)号: | CN102834750A | 公开(公告)日: | 2012-12-19 |
发明(设计)人: | 秋田阳介;坂本宽;池田康宏;樱井宏巳;海田由里子 | 申请(专利权)人: | 旭硝子株式会社 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;C23C14/08;C23C14/14;G02F1/1335;G02F1/13357 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 刘多益 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 线栅型 偏振 制造 方法 液晶 显示装置 | ||
1.线栅型偏振器的制造方法,所述线栅型偏振器具备:多根凸条介以形成于该凸条间的平坦部相互平行、且隔开规定的间距形成于表面的透光性基板,和包覆所述凸条的至少一个侧面、由金属层和金属氧化物层构成的包覆层,所述包覆层中,从所述凸条的一半高度位置到底部为止的包覆厚度的最大值小于从所述凸条的一半高度位置到顶部为止的包覆厚度的最大值,其特征在于,
所述金属层通过以该金属层上不形成氧化物的方式蒸镀铝而形成,
所述金属氧化物层通过以该金属氧化物层上产生氧缺陷的方式于氧的存在下蒸镀铝而形成。
2.如权利要求1所述的线栅型偏振器的制造方法,其特征在于,具备:
从与所述凸条的长度方向大致垂直、且第一侧面侧与所述凸条的高度方向成满足下式(a)的角度θR1的方向蒸镀铝,形成所述金属氧化物层或所述金属层的工序(1R1),和
在工序(1R1)之后,从与所述凸条的长度方向大致垂直、且第一侧面侧与所述凸条的高度方向成满足下式(b)的角度θR2(°)的方向,以达到比工序(1R1)多的蒸镀量的条件蒸镀铝,形成所述金属层或所述金属氧化物层的工序(1R2),
tan(θR1±10)=(Pp-Dpb/2)/Hp (a)
θR1+3≦θR2≦θR1+30 (b)
其中,Pp为凸条间的间距,Dpb为凸条的底部宽度,Hp为凸条的高度。
3.如权利要求2所述的线栅型偏振器的制造方法,其特征在于,所述工序(1R1)以蒸镀量达到4~25nm的条件进行,所述工序(1R2)以蒸镀量达到25~70nm的条件进行。
4.如权利要求1所述的线栅型偏振器的制造方法,其特征在于,所述包覆层包覆所述凸条的2个侧面,且2个侧面中从所述凸条的一半高度位置到底部为止的包覆厚度的最大值小于从所述凸条的一半高度位置到顶部为止的包覆厚度的最大值。
5.如权利要求4所述的线栅型偏振器的制造方法,其特征在于,具备:
从与所述凸条的长度方向大致垂直、且第一侧面侧与所述凸条的高度方向成满足下式(c)的角度θR1(°)的方向蒸镀铝,形成所述金属氧化物层或所述金属层的工序(2R1),
从与所述凸条的长度方向大致垂直、且第二侧面侧与所述凸条的高度方向成满足下式(d)的角度θL1(°)的方向蒸镀铝,形成所述金属氧化物层或所述金属层的工序(2L1),
在所述工序(2R1)之后,从与所述凸条的长度方向大致垂直、且第一侧面侧与所述凸条的高度方向成满足下式(e)的角度θR2(°)的方向,以达到比工序(2R1)多的蒸镀量的条件蒸镀铝,形成所述金属层或所述金属氧化物层的工序(2R2),和
在所述工序(2L1)之后,从与所述凸条的长度方向大致垂直、且第二侧面侧与所述凸条的高度方向成满足下式(f)的角度θL2(°)的方向,以达到比工序(2L1)多的蒸镀量的条件蒸镀铝,形成所述金属层或所述金属氧化物层的工序(2L2),
tan(θR1±10)=(Pp-Dpb/2)/Hp (c)
tan(θL1±10)=(Pp-Dpb/2)/Hp (d)
θR1+3≦θR2≦θR1+20 (e)
θL1+1≦θL2≦θL1+20 (f)
其中,Pp为凸条间的间距,Dpb为凸条的底部宽度,Hp为凸条的高度。
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