[发明专利]螺杂环取代的特特拉姆酸衍生物在审
| 申请号： | 201180018214.6 | 申请日： | 2011-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN103068825A | 公开（公告）日： | 2013-04-24 |
| 发明（设计）人： | R·菲舍尔;A·沃斯特;I·豪瑟尔-哈恩;S·莱尔;E·加茨魏勒;U·高根斯;I·海涅曼 | 申请（专利权）人： | 拜耳知识产权有限责任公司 |
| 主分类号： | C07D471/10 | 分类号： | C07D471/10;C07D211/94;A01N43/90 |
| 代理公司： | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人： | 苏萌;钟守期 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 螺杂环 取代 特特拉姆酸 衍生物 | ||
1.式(I)的化合物
其中
W代表氢、卤素、烷基、烷氧基、卤代烷基、卤代烷氧基或氰基，
X代表卤素、烷基、烷氧基、卤代烷基、卤代烷氧基或氰基，
Y代表氢、烷基、卤素、烷氧基、卤代烷基或卤代烷氧基，
Z代表任选地单或多取代的氟苯基，
A代表氢、各自任选地取代的烷基、烯基、炔基、烷氧基烷基、苯基烷基、杂芳基烷基或代表基团G，
G代表氢(a)或代表以下基团中的一个：
其中
E代表金属离子或铵离子，
L代表氧或硫，
M代表氧或硫，
R1代表各自任选地被卤素或氰基取代的烷基、烯基、烷氧基烷基、烷基硫代烷基或多烷氧基烷基或代表各自任选地被卤素、烷基或烷氧基取代的环烷基或杂环基或代表各自任选地被取代的苯基、苯基烷基、杂芳基、苯氧基烷基或杂芳基氧基烷基，
R2代表各自任选地被卤素或氰基取代的烷基、烯基、烷氧基烷基或多烷氧基烷基或代表各自任选地被取代的环烷基、苯基或苄基，
R3、R4和R5彼此独立地代表各自任选地被卤素取代的烷基、烷氧基、烷基氨基、二烷基氨基、烷基硫基、烯基硫基或环烷基硫基或代表各自任选地被取代的苯基、苄基、苯氧基或苯硫基，
R6和R7彼此独立地代表氢、各自任选地被卤素或氰基取代的烷基、环烷基、烯基、烷氧基、烷氧基烷基，代表各自任选地被取代的苯基或苄基，或与其所连接的氮原子一起形成一个任选被取代的且任选含有氧或硫的环。
2.权利要求1的式(I)的化合物，其中
W代表氢、卤素、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基或氰基，
X代表卤素、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷氧基或氰基，
Y代表氢、卤素、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基，
Z代表基团
V1代表氢、卤素、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6烷硫基、C1-C6烷基亚磺酰基、C1-C6烷基磺酰基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、硝基或氰基，
V2代表氢、卤素、C1-C6烷基或C1-C6烷氧基，
A代表氢、C1-C6烷基、C3-C6烯基、C3-C6炔基、C1-C6卤代烷基、C1-C6氰基烷基、C1-C4烷氧基-C1-C4烷基；代表苯基-(C1-C2)烷基、杂芳基-(C1-C2)烷基，其各自任选地被卤素、C1-C4烷基、C1-C4烷氧基、C1-C2卤代烷基、C1-C2卤代烷氧基或氰基单或多取代，或代表基团G，
G代表氢(a)或代表以下基团之一
其中
E代表金属离子或铵离子，
L代表氧或硫，且
M代表氧或硫，
R1代表各自任选被卤素或氰基取代的C1-C20烷基、C2-C20烯基、C1-C8烷氧基-C1-C8烷基、C1-C8烷硫基-C1-C8烷基或多-C1-C8烷氧基-C1-C8烷基；或代表任选被卤素、C1-C6烷基或C1-C6烷氧基取代的C3-C8环烷基，其中任选一个或两个不直接相邻的亚甲基基团被氧和/或硫替代，
代表任选被卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷基、C1-C6卤代烷氧基、C1-C6烷硫基或C1-C6烷基磺酰基取代的苯基，
代表任选被卤素、硝基、氰基、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷基或C1-C6卤代烷氧基取代的苯基-C1-C6烷基，
代表任选被卤素或C1-C6烷基取代的具有一个或两个选自氧、硫和氮的杂原子的5元或6元杂芳基，
代表任选被卤素或C1-C6烷基取代的苯氧基-C1-C6烷基，或
代表任选被卤素、氨基或C1-C6烷基取代的具有一个或两个选自氧、硫和氮的杂原子的5元或6元杂芳氧基-C1-C6烷基，
R2代表各自任选被卤素或氰基取代的C1-C20烷基、C2-C20烯基、C1-C8烷氧基-C2-C8烷基或多-C1-C8烷氧基-C2-C8烷基，
代表任选被卤素、C1-C6烷基或C1-C6烷氧基取代的C3-C8环烷基，或
代表各自任选被卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷基或C1-C6卤代烷氧基取代的苯基或苄基，
R3代表任选被卤素取代的C1-C8烷基，或者各自任选被卤素、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、氰基或硝基取代的苯基或苄基，
R4和R5彼此独立地代表各自任选被卤素取代的C1-C8烷基、C1-C8烷氧基、C1-C8烷基氨基、二(C1-C8烷基)氨基、C1-C8烷硫基或C3-C8烯硫基，或者代表各自任选被卤素、硝基、氰基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷硫基、C1-C4卤代烷硫基、C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基取代的苯基、苯氧基或苯硫基，
R6和R7彼此独立地代表氢，代表各自任选被卤素或氰基取代的C1-C8烷基、C3-C8环烷基、C1-C8烷氧基、C3-C8烯基或C1-C8烷氧基-C2-C8烷基，代表各自任选被卤素、C1-C8烷基、C1-C8卤代烷基或C1-C8烷氧基取代的苯基或苄基，或一起代表一个任选被C1-C6烷基取代的C3-C6亚烷基基团，其中任选一个亚甲基基团被氧或硫替代。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于拜耳知识产权有限责任公司，未经拜耳知识产权有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201180018214.6/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
