[发明专利]放射线检测装置、放射线照相设备和放射线系统无效

专利信息
申请号: 201180017407.X 申请日: 2011-03-29
公开(公告)号: CN102821693A 公开(公告)日: 2012-12-12
发明(设计)人: 多田拓司 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00;A61B6/06
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 汤雄军
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 放射线 检测 装置 照相 设备 系统
【权利要求书】:

1.一种放射线检测装置,包括:

第一光栅;

第二光栅,所述第二光栅具有与所述第一光栅的由已经穿过所述第一光栅的放射线形成的放射线图像的周期性图案大致相同的周期性图案;和

放射线图像检测器,所述放射线图像检测器检测被所述第二光栅遮蔽的所述放射线图像,其中:

所述第一光栅和第二光栅中的每一个都包括多个光栅件,所述多个光栅件在一平面内至少布置在第一方向上,所述平面与穿过所述平面的放射线的行进方向交叉;

在放射线焦点作为视点到所述放射线图像检测器的投影中,所述放射线图像检测器包括第一像素组、第二像素组和除了所述第一像素组和所述第二像素组之外的第三像素组,所述第一光栅的在第一方向上的相邻光栅件的连接部被投影到所述第一像素组,所述第二光栅的在所述第一方向上的相邻光栅件的连接部被投影到所述第二像素组;以及

属于所述第三像素组的至少一个像素置于属于所述第一像素组的每一个像素与属于所述第二像素组的每一个像素之间。

2.根据权利要求1所述的放射线检测装置,其中,在所述放射线焦点作为视点到所述放射线图像检测器上的投影中,所述第一光栅的中心的投影和所述第二光栅的中心的投影在所述第一方向上未对准。

3.根据权利要求1所述的放射线检测装置,其中,所述第一光栅的在所述第一方向上布置的光栅件的数量与所述第二光栅的在所述第一方向上布置的光栅件的数量不同。

4.根据权利要求1所述的放射线检测装置,其中,在所述第一光栅和所述第二光栅中的至少一个中,对于在所述第一方向上布置的每一列光栅件,在所述第一方向上的光栅件的一部分的维度与其它光栅件不同。

5.根据权利要求1所述的放射线检测装置,其中,在所述第一光栅和所述第二光栅中的每一个中,布置有所述多个光栅件的表面是圆柱形表面,并且所述圆柱形表面的中心轴线穿过所述放射线焦点。

6.根据权利要求1所述的放射线检测装置,在所述第一光栅和所述第二光栅中的每一个中,所述多个光栅件在与所述第一方向交叉的第二方向上布置。

7.根据权利要求6所述的放射线检测装置,其中:

在所述放射线焦点作为视点到所述放射线图像检测器上的投影中,所述放射线图像检测器包括第四像素组、第五像素组和除了所述第四像素组和所述第五像素组的第六像素组,其中第一光栅的在所述第二方向上的相邻光栅件的连接部被投影到所述第四像素组上,所述第二光栅的在所述第二方向上的相邻光栅件的连接部被投影到所述第五像素组上;以及

属于所述第六像素组的至少一个像素置于属于所述第四像素组的每一个像素与属于所述第五像素组的每一个像素之间。

8.根据权利要求7所述的放射线检测装置,其中,在所述放射线焦点作为视点到所述放射线图像检测器上的投影中,所述第一光栅的中心的投影和所述第二光栅的中心的投影未对准。

9.根据权利要求7所述的放射线检测装置,其中,在所述第二方向上布置的所述第一光栅的光栅件的数量与在所述第二方向上布置的所述第二光栅的光栅件的数量不同。

10.根据权利要求7所述的放射线检测装置,其中,在所述第一光栅和所述第二光栅中的至少一个中,对于在所述第二方向上布置的每一列光栅件,在所述第二方向上的光栅件的一部分的维度与其它光栅件不同。

11.一种放射线照相设备,包括:

根据权利要求1所述的放射线检测装置;和

将放射线照射到所述放射线检测装置的放射线源。

12.根据权利要求11所述的放射线照相设备,还包括:

扫描机构,所述扫描机构使所述第一光栅和所述第二光栅中的至少一个移动并设置所述第二光栅以具有相对于所述第一光栅的放射线图像具有不同的相位的多个相对位置关系,

其中所述放射线图像检测器根据每一个相对位置关系检测被所述第二光栅遮蔽的放射线图像。

13.一种放射线照相系统,包括:

根据权利要求12所述的放射线照相设备;和

运算部分,所述运算部分从通过所述放射线图像检测器获得的多个图像计算入射在所述放射线图像检测器上的放射线的折射角分布以及根据所述折射角分布生成对象的相衬图像。

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