[发明专利]用于确定对象的材料特性的方法有效
申请号: | 201180016233.5 | 申请日: | 2011-03-28 |
公开(公告)号: | CN102939531A | 公开(公告)日: | 2013-02-20 |
发明(设计)人: | T.埃特尔 | 申请(专利权)人: | 德固萨有限责任公司 |
主分类号: | G01N21/49 | 分类号: | G01N21/49;G01B11/25;G02B21/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 张涛;卢江 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 确定 对象 材料 特性 方法 | ||
1. 一种用于确定对象的材料特性,尤其是优选半透明对象的光学特性的方法,其特征在于,为了确定材料特性利用参照物体的光谱分辨的数据计算用共焦3D测量系统确定的对象的测量数据的光谱分辨的数据,其中对测量点确定在测量系统至对象的距离相互不同时的多个光谱分辨的数据。
2. 根据权利要求1所述的方法,其特征在于,使用共焦的色散3D测量系统。
3. 根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,为了确定材料特性,测量多焦点照射图案的成像在对象上的焦点的直接反射的第一辐射的光谱分辨的数据,而且还在离相应成像的焦点距离Δx处测量漫反射的第二辐射。
4. 根据上述权利要求至少之一所述的方法,其特征在于,与一个焦点对应的直接反射的第一辐射与漫反射的第二辐射之间的距离在5μm与3mm之间,尤其是在10μm与200μm之间。
5. 根据上述权利要求至少之一所述的方法,其特征在于,为了确定光谱分辨的数据借助3D测量装置向对象施加第一辐射,该第一辐射处在波长范围Δλ1中,向对象施加处在波长范围Δλ2中的第二辐射,并且根据由该对象漫反射的第二辐射确定该对象的2D图像。
6. 根据上述权利要求至少之一所述的方法,其特征在于,用具有与对象的位置坐标对应的第一像素的第一传感器测量3D图像,用具有与对象的位置坐标对应的第二像素的第二传感器测量2D图像,并且第一像素和第二像素相互对应。
7. 根据上述权利要求至少之一所述的方法,其特征在于,借助利用第一传感器确定的来自一个或多个帧的光谱信息和利用第二传感器确定的来自一个或多个帧的光谱信息计算材料对应,其中所述多个帧显示在不同角度和/或在不同时间的相同测量点。
8. 根据上述权利要求至少之一所述的方法,其特征在于,向所测量的光谱施加校正因子,该校正因子由参照物体的光谱确定,在没有共焦测量条件的情况下测量该参照物体的漫反射或者从存储在计算机中的库中获得该参照物体的光谱。
9. 根据上述权利要求至少之一所述的方法,其特征在于,将在考虑所述校正因子情况下的测量光谱与存储在查找表中的光谱进行比较,所述存储在查找表中的光谱代表材料特性。
10. 根据上述权利要求至少之一所述的方法,其特征在于,既由在共焦条件下确定的测量点的测量光谱又由该测量点区域中的背景光谱来确定材料特性。
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