[发明专利]光触媒涂装体以及光触媒涂液

说明书

技术领域

本发明涉及一种光触媒涂装体以及用于其形成的光触媒涂液。

背景技术

近几年广泛利用氧化钛等光触媒。利用由光能激发的光触媒的活性，能够分解各种有害物质，或者通过对形成在包含光触媒粒子的表层上的构件表面进行亲水化，从而能够容易地用水清洗附着在表面上的污渍。

作为在基体材料表面上形成包含光触媒粒子的层的方法，公知有如下方法（例如，日本国特开平7-171408号公报（专利文献1）），利用对光触媒具有耐蚀性的粘结剂成分而形成层，而且贴紧在基体材料表面上。

也公开有在这种方法中使用的各种粘结剂种类。具体而言，存在氟化乙烯树脂（例如，日本国特开平7-171408号公报（专利文献1））、硅酮（例如，日本国特开2005-161204号公报（专利文献2））、二氧化硅粒子（例如，日本国特开2008-264747号公报（专利文献3））、锆化合物（例如，国际公开第99/28393号（专利文献4）、日本国特开2007-055207号公报（专利文献5））、铝化合物（例如，日本国特开2009-39687号公报（专利文献6））等。

在基体材料表面上形成上述光触媒层的结构中，如果基体材料为有机材料，则有机材料因光触媒的光触媒活性而有可能发生分解或劣化。为了应对该问题，公知有如下技术（国际公开第97/00134号（专利文献7）），在光触媒层与基体材料之间设置硅酮变性树脂等的粘接层，从由光触媒作用引起的劣化中保护基底的基体材料。该现有技术中，具体地公开有光触媒量超过20重量%的例子，而且记载成有效地防止了基体材料产生分解或劣化。

而且，也公开有如下内容（日本国特开2008-272718号公报（专利文献8）），在光触媒层与基体材料之间设置包含硅酮变性树脂与有机防霉剂的中间层，防止基体材料发生分解或劣化。

另外，也利用氧化钛等光触媒来分解NO_X等各种有害物质。

关于使用光触媒来分解NO_X的技术，存在各种提案（例如，日本国特开平1-218622号公报（专利文献9）、日本国特开2001-162176号公报（专利文献10）、日本国特开2008-264747号公报（专利文献3）等）。另外，为了在各种基体材料上发挥上述功能，周知有使用各种粘结剂将光触媒粒子固定在基体材料上的方法（例如，日本国特开平7-171408号公报（专利文献1）、国际公开第97/00134号（专利文献7）、国际公开第99/28393号（专利文献4））。

在NO_X分解中重要的是，在高效地进行该分解的同时抑制有害的NO₂等中间生成物的生成。在利用光触媒进行NO_X分解时，存在对能够抑制有害的中间生成物的生成的技术的需求。

专利文献1：日本国特开平7-171408号公报

专利文献2：日本国特开2005-161204号公报

专利文献3：日本国特开2008-264747号公报

专利文献4：国际公开第99/28393号公报

专利文献5：日本国特开2007-055207号公报

专利文献6：日本国特开2009-39687号公报

专利文献7：国际公开第97/00134号公报

专利文献8：日本国特开2008-272718号公报

专利文献9：日本国特开平1-218622号公报

专利文献10：日本国特开2001-162176号公报

专利文献11：日本国特开平9-227156号公报

发明内容

本发明者们这次得到了如下知识，通过构成以特定的比例包含光触媒性氧化钛粒子、二氧化硅粒子与特定的锆化合物的光触媒层，从而能够得到良好的耐大气腐蚀性，即有效地防止基体材料发生分解或劣化。而且还得到了如下知识，通过构成以特定的比例包含光触媒性氧化钛粒子、二氧化硅粒子与特定的锆化合物且粒子成分量被控制的光触媒层，从而在除去NO_X时，尤其在除去空气中的NO_X时，能够在提高NO_X除去量的同时抑制NO₂等中间生成物的生成。本发明是基于上述知识而进行的。

因而，本发明的第一形态的目的在于提供一种能够得到良好的耐大气腐蚀性的光触媒涂装体以及用于其形成的光触媒涂液。