[发明专利]投射光束的调整方法无效

专利信息
申请号: 201180015451.7 申请日: 2011-03-24
公开(公告)号: CN102822620A 公开(公告)日: 2012-12-12
发明(设计)人: 山川健太;一柳星文 申请(专利权)人: 欧姆龙株式会社
主分类号: G01C3/00 分类号: G01C3/00;G01B11/00;G01C3/06;G01S7/48;G01S17/48
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 张艳杰;张浴月
地址: 日本京都*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 投射 光束 调整 方法
【权利要求书】:

1.一种投射光束的调整方法,用于调整光学位移传感器的投射光束,该光学位移传感器具有用于将光向测定对象物投射的投光透镜,其特征在于,

上述光学位移传感器具有:

受光部,其用于接收被上述测定对象物反射的反射光,

受光透镜,其位于上述对象物和上述受光部之间,用于将上述反射光成像在上述受光面上;

将上述投光透镜、上述受光部和上述受光透镜配置成满足交线条件,

调整从上述投光透镜照射的光的焦点位置,使得上述反射光成像在上述受光部上的像的尺寸不受上述投光透镜和上述测定对象物之间的距离的影响而恒定不变。

2.如权利要求1所述的投射光束的调整方法,其特征在于,上述投射光束为激光。

3.如权利要求1或2所述的投射光束的调整方法,其特征在于,上述像的尺寸取决于特定光斑直径和光学倍率之积,该特定光斑直径是指,通过上述投射光束来形成的上述测定对象物的光斑直径,而且该光学倍率是由成像在上述受光部上的像的尺寸相对于上述测定对象物的光斑直径的比率来决定的。

4.如权利要求1~3中任一项所述的投射光束的调整方法,其特征在于,调整从光源发出的光的焦点位置,使得上述受光部上的像的尺寸不受光源和测定对象物之间的距离的影响而恒定不变的步骤包括:以使受光部上的像的尺寸具有能够使像成像在用于构成受光部的多个光电二极管中的至少3个以上光电二极管上的大小的方式进行调整的步骤。

5.一种投射光束的调整方法,用于调整光学位移传感器的投射光束,该光学位移传感器具有用于将光向测定对象物投射的投光透镜,其特征在于,

上述光学位移传感器具有:

受光部,其用于接收被上述测定对象物反射的反射光,

受光透镜,其位于上述对象物和上述受光部之间,用于将上述反射光成像在上述受光面上;

将上述投光透镜、上述受光部和上述受光透镜配置成满足交线条件,

调整从上述投光透镜照射的光的焦点位置,使得上述反射光成像在上述受光部上的像的尺寸不受上述投光透镜和上述测定对象物之间的距离的影响,而且受光部上的像的尺寸具有能够使像成像在用于构成受光部的多个光电二极管上的大小。

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