[发明专利]吡咯并吡嗪衍生物及其作为JAK和SYK抑制剂的用途

权利要求书

1.式I的化合物或其可药用盐，

其中：

Y是C(R¹)₂(C(R¹’)₂)_m

m是0或1；

R¹各自是H或R^1a；

R^1a各自独立地是低级烷基、低级烷氧基、苯基、苄基、杂芳基、环烷基、杂环烷基或环烷基低级烷基，其任选地被一个或多个R^1a’取代；

R^1a’是卤素、低级烷基、低级卤代烷基、低级烷氧基、低级羟基烷基、氧代、羟基或氰基；

R¹’各自独立地是H、低级烷基或低级卤代烷基；

R²独立地是H或R^2a；

R^2a独立地是低级烷基、低级卤代烷基、低级烷氧基、低级羟基烷基、氰基低级烷基、环烷基或杂环烷基；

或者R^2a和R^1a一起形成环，其任选地被一个或多个以下基团取代：卤素、低级烷基、氰基、氰基低级烷基、羟基、低级卤代烷基、低级羟基烷基、低级烷氧基、低级烷基氨基或低级二烷基氨基；

R³独立地是H或R^3a；

R^3a独立地是低级烷基、低级卤代烷基、低级烷氧基、低级羟基烷基、氰基低级烷基、C(=O)R^3a’或S(=O)₂R^3a’；

R^3a’各自独立地是H或低级烷基；

Q是H、卤素、羟基、氰基或Q’；

Q’是低级烷基、低级链烯基、低级炔基、环烷基、苯基、环烯基、杂环烷基或杂芳基，其任选地被一个或多个Q^a取代；

Q^a是Q^b或Q^c；

Q^b是卤素、氧代、羟基、–CN、–SCH₃、–S(O)₂CH₃或–S(=O)CH₃；

Q^c是Q^d或Q^e；

或者两个Q^a一起形成二环环系，其任选地被一个或多个Q^b或Q^c取代；

Q^d是-O(Q^e)、–S(=O)₂(Q^e)、–C(=O)N(Q^e)₂、–S(O)₂(Q^e)、–C(=O)(Q^e)、–C(=O)O(Q^e)、–N(Q^e)₂；–N(Q^e)C(=O)(Q^e)、–N(Q^e)C(=O)O(Q^e)或–N(Q^e)C(=O)N(Q^e)₂；

Q^e各自独立地是H或Q^e’；

Q^e’各自独立地是低级烷基、苯基、苄基、低级卤代烷基、低级烷氧基、环烷基、环烯基、杂环烷基或杂芳基，其任选地被一个或多个Q^f取代；

Q^f是Q^g或Q^h；

Q^g是卤素、羟基、氰基、氧代或–C(=O)(Q^h)；

Q^h是低级烷基、低级卤代烷基、低级烷氧基、氨基、苯基、苄基、环烷基、杂环烷基或杂芳基，其任选地被一个或多个Qⁱ取代；并且

Qⁱ是卤素、羟基、氰基、低级烷基、低级卤代烷基或低级烷氧基。

2.如权利要求1所述的化合物，其中Q是环烷基或杂环烷基，其任选地被一个或多个Q^a取代。