[发明专利]用于光学元件的减反射涂膜和减反射涂料和光学元件有效
| 申请号： | 201180009438.0 | 申请日： | 2011-02-09 |
| 公开（公告）号： | CN102770497A | 公开（公告）日： | 2012-11-07 |
| 发明（设计）人： | 久保田怜子 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | C09D5/00 | 分类号： | C09D5/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 李帆 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 光学 元件 反射 涂料 | ||
1.用于光学元件的减反射涂膜，包括：
第一颗粒，其具有对于d-线的至少2.2以上的折射率（nd）和10nm-70nm的平均粒径；
第二颗粒，其由二氧化硅和绢云母中的至少一种组成，该第二颗粒具有1μm-11μm的平均粒径；
着色剂，其由有机物组成并且在有机溶剂中可溶；和
树脂，
其中该第一颗粒含量在10重量%-35重量%的范围内，并且该第二颗粒含量在1重量%-11重量%的范围内。
2.根据权利要求1的用于光学元件的减反射涂膜，其中该第一颗粒中具有100nm以上的粒径的颗粒的个数百分比为0.3%以下。
3.根据权利要求1的用于光学元件的减反射涂膜，其中该第一颗粒含有二氧化钛和氧化锆中的至少一种。
4.根据权利要求1的用于光学元件的减反射涂膜，其中该由有机物组成并且在有机溶剂中可溶的着色剂为染料。
5.根据权利要求1的用于光学元件的减反射涂膜，其中该用于光学元件的减反射涂膜的400nm-700nm的波长范围内的最小吸光率与最大吸光率之比（最小吸光率/最大吸光率）为0.7以上。
6.用于光学元件的减反射涂料，包括：
有机溶剂；
第一颗粒，其具有对于d-线的至少2.2以上的折射率（nd）和10nm-70nm的平均粒径；
第二颗粒，其由二氧化硅和绢云母中的至少一种组成，该第二颗粒具有1μm-11μm的平均粒径；
着色剂，其由有机物组成并且在有机溶剂中可溶；和
树脂，
其中相对于不包括该有机溶剂的固体成分，该第一颗粒含量在10重量%-35重量%的范围内，并且该第二颗粒含量在1重量%-11重量%的范围内。
7.光学元件，包括：
基材，其由光学材料组成；和
设置在该基材的表面上的减反射涂膜，
该减反射涂膜包括：
第一颗粒，其具有对于d-线的至少2.2以上的折射率（nd）和10nm-70nm的平均粒径；
第二颗粒，其由二氧化硅和绢云母中的至少一种组成，该第二颗粒具有1μm-11μm的平均粒径；
着色剂，其由有机物组成并且在有机溶剂中可溶；和
树脂，
其中该第一颗粒含量在10重量%-35重量%的范围内，并且该第二颗粒含量在1重量%-11重量%的范围内。
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