[发明专利]氧化炉的端面密封部件

权利要求书

1.一种炉，其包括：

炉腔，产品通过所述炉腔而被处理，所述产品在炉腔中被暴露于期望的处理温度和工艺气体中；

炉壁，所述炉壁上有多个孔，所述产品通过孔穿入和穿出炉腔；

前腔，所述前腔邻接于炉壁，并且通过炉壁至少部分地与炉腔分离，所述前腔包括至少一个孔，大气通过该孔从炉的周围环境中进入前腔；

回流气体导管，所述回流气体导管位于所述前腔内，用来吸入空气幕气体，所述空气幕气体含有以下气体的至少一种的一部分：

    从炉腔通过炉壁上多个孔的至少一个进入前腔的工艺气体，以及

    从周围环境中进入前腔的环境气体，其中工艺气体的温度相对高于环境气体；和

喷嘴，所述喷嘴置于前腔的外部，并邻接于至少一个前腔上的孔，并与回流气体导管流体连通，用于接收至少一部分由回流气体导管引入的空气幕气体，并且引导空气幕气体大致朝向前腔上的至少一个孔，以在邻近于所述至少一个孔处形成空气幕；所述空气幕干扰工艺气体和环境气体中的至少一种通过至少前腔上的孔从前腔向外流入周围环境中。

2.如权利要求1所述的炉，所述炉还含有设于回流气体导管和喷嘴之间的空气动力源，用以促进空气幕气体的气流从所述回流气体导管流向所述喷嘴。

3.如权利要求2所述的炉，所述炉还含有导管，用于在回流气体导管和喷嘴之间传输空气幕气体，其中大部分的导管暴露于前腔内的升高的温度环境中。

4.如权利要求2所述的炉，所述炉还含有位于回流空气导管和喷嘴之间的加热器，用以提升传送至喷嘴的空气幕气体的温度，使其温度升高至大于由回流气体导管所吸入的空气幕气体的温度。

5.如权利要求4所述的炉，所述加热器将所述空气幕气体的温度提升至约为炉腔内的处理温度。

6.如权利要求4所述的炉，所述炉还含有温度传感器，用于感测传送至喷嘴的空气幕气体的温度，并将表示所感测到的温度的反馈信号进行传递，以控制加热器的操作，从而获得预设的目标温度。

7.如权利要求2所述的炉，所述炉还含有一个可调的调节闸，所述调节闸位于所述空气动力源和所述喷嘴之间，用于调节，空气幕气体向喷嘴的流动，所述流动为形成空气幕。

8.如权利要求7所述的炉，其中所述可调的调节闸与喷嘴之间流体连通，并且在炉运行过程中，能够从周围环境触及并调节所述调节闸。

9.如权利要求1所述的炉，所述炉还包括：

旁路导管，其绕过喷嘴，用于传输旁路气体，所述旁路气体含有一部分空气幕气体，所述空气幕气体由所述回流气体导管吸入至暴露于所述炉腔的内部的回流气体集气室，其中基本上所有在回流气体导管和回流气体集气室之间延伸的旁路导管，都被暴露于前腔和炉腔中的至少一个内的提升的温度环境中。

10.如权利要求9所述的炉，其中所述炉还含有可调节的调节闸，用于调节通向回流气体集气室并要被重新导入所述炉腔的旁路气体的流动，其中通过调节所述调节阀而建立起来的气流的流动幅度促进炉腔内形成实质上均匀的温度。

11.如权利要求9所述的炉，其中所述炉还含有供应式集气室，所述供应式集气室与回流气体集气室流体连通，以接收从回流气体集气室而来的旁路气体，并将旁路气体引入炉腔作为工艺气体。

12.如权利要求11所述的炉，所述炉还含有回流导管，用于传输在回流气体集气室和供应式集气室之间的旁路气体，其中基本上整个回流导管都暴露于炉腔的内部。

13.如权利要求12所述的炉，所述炉还含有：

空气动力源，用于施加大体上朝向供应式集气室驱动旁路气体的力；和

集气室加热器，所述集气室加热器沿着回流导管而设置，以加热回流气体集气室和供应式集气室之间的旁路气体。