[发明专利]激光退火处理装置、激光退火处理体的制造方法及激光退火处理程序有效
申请号: | 201180003017.7 | 申请日: | 2011-02-14 |
公开(公告)号: | CN102473615A | 公开(公告)日: | 2012-05-23 |
发明(设计)人: | 吉泽太一;郑石焕 | 申请(专利权)人: | 株式会社日本制钢所 |
主分类号: | H01L21/268 | 分类号: | H01L21/268 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 李玲 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 激光 退火 处理 装置 制造 方法 程序 | ||
1.一种激光退火处理装置,其特征在于,包括:
气体激发脉冲激光振荡器;
可变衰减器,该可变衰减器以规定的衰减率使从该气体激发脉冲激光振荡器输出的脉冲激光透过;
光学系统,该光学系统将透过该可变衰减器的脉冲激光引导至被处理体;以及
控制部,该控制部进行第一控制,该第一控制对所述气体激发脉冲激光振荡器的所述脉冲激光的输出值进行调节,
所述控制部进行第二控制,该第二控制根据所述气体激发脉冲激光振荡器内的气体劣变,降低由所述第一控制所调节的所述输出值,并减小所述可变衰减器的衰减率。
2.如权利要求1所述的激光退火处理装置,其特征在于,包括脉冲波形测定部,该脉冲波形测定部测定对所述被处理体进行照射的脉冲激光的脉冲波形,
所述控制部接收所述脉冲波形测定部的测定结果,从所测定的脉冲波形中的第一峰值P1及第二峰值P2求出峰值比P2/P1,当该峰值比超过规定比值的情况下,判定为所述气体发生了劣变并进行所述第二控制。
3.如权利要求1所述的激光退火处理装置,其特征在于,
所述控制部通过调节施加于所述气体激发脉冲激光振荡器的放电电压来调节所述第一控制中的所述输出值,如果所述放电电压超过规定电压,则判定为所述气体发生了劣变并进行所述第二控制。
4.如权利要求1至3的任一项所述的激光退火处理装置,其特征在于,包括输出值测定部,该输出值测定部对所述气体激发脉冲激光振荡器的脉冲激光的输出值进行测定,所述控制部接收该输出值测定部的测定结果并进行所述第一控制,以使所述气体激发脉冲激光振荡器的输出成为规定的输出值。
5.如权利要求1至4的任一项所述的激光退火处理装置,其特征在于,包括气体供给单元,该气体供给单元对所述气体激发脉冲激光振荡器补充所述气体,所述控制部根据所述气体的劣变及所述气体激发脉冲激光振荡器的运行时间的一方或双方,来对由所述气体供给单元补充所述气体进行控制。
6.如权利要求1至5的任一项所述的激光退火处理装置,其特征在于,所述控制部对所述可变衰减器的衰减率进行调节以使对所述被处理体进行照射的脉冲激光的脉冲能量成为规定能量值。
7.如权利要求6所述的激光退火处理装置,其特征在于,包括脉冲能量测定部,该脉冲能量测定部测定对所述被处理体进行照射的脉冲激光的脉冲能量,并将该测定结果输出至所述控制部,所述控制部基于所述测定结果进行所述调节。
8.如权利要求7所述的激光退火处理装置,其特征在于,所述脉冲能量测定部对由所述光学系统进行了光束形状整形后的脉冲激光进行测定。
9.如权利要求1至8的任一项所述的激光退火处理装置,其特征在于,所述控制部随着所述气体劣变的恶化,判定为达到所述气体的更换时期。
10.一种激光退火处理体的制造方法,该方法以规定的衰减率使从气体激发脉冲激光振荡器输出的脉冲激光透过可变衰减器,来对被处理体进行照射,该激光退火处理体的制造方法的特征在于,
进行第一控制,该第一控制将从所述气体激发脉冲激光振荡器输出的所述脉冲激光的输出值调节为规定值;对该气体激发脉冲激光振荡器内的气体的劣变状态进行判定;进行第二控制,该第二控制根据该判定结果,降低由所述第一控制所调节的所述输出值,并减小所述可变衰减器的衰减率。
11.如权利要求10所述的激光退火处理体的制造方法,其特征在于,对所述脉冲激光的脉冲波形进行测定,从所测定的脉冲波形中的第一峰值P1及第二峰值P2求出峰值比P2/P1,当该峰值比超过规定比值的情况下,判定为所述气体发生了劣变并进行所述第二控制。
12.如权利要求10或11所述的激光退火处理体的制造方法,其特征在于,通过调节施加于所述气体激发脉冲激光振荡器的放电电压来调节所述第一控制中的所述输出值。
13.如权利要求10至12的任一项所述的激光退火处理体的制造方法,其特征在于,对所述可变衰减器的衰减率进行调节以使对所述被处理体进行照射的脉冲激光的脉冲能量成为规定能量值。
14.一种激光退火处理程序,利用控制部进行工作,该控制部将从气体激发脉冲激光振荡器输出的脉冲激光的输出值调节为规定值,并对可变衰减器的透射率进行调节,其中从所述气体激发脉冲激光振荡器输出并对被处理体进行照射的脉冲激光以规定的透射率透过该可调衰减器,该激光退火处理程序的特征在于,具有:
第一步骤,该第一步骤将从所述气体激发脉冲激光振荡器输出的脉冲激光的输出值调节为规定值;
第二步骤,该第二步骤对该气体激发脉冲激光振荡器内的气体劣变状态进行判定;以及
第三步骤,该第三步骤根据该第二步骤的判定结果,降低由所述第一步骤所调节的所述输出的规定值,并减小所述可变衰减器的衰减率。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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