[发明专利]磁盘用玻璃基板的制造方法

权利要求书

1.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该制造方法具有玻璃基板的清洗工序，其特征在于，所述清洗工序具有使玻璃基板与包含草酸和二价铁离子的pH为2～4的清洗液相接触的处理。

2.如权利要求1所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述清洗液中的草酸的浓度为0.2重量％～3.0重量％。

3.如权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述清洗液是通过添加可提供二价铁离子的物质而制作的。

4.如权利要求3所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述可提供二价铁离子的物质为选自硫酸亚铁(II)铵、硫酸亚铁(II)和草酸亚铁(II)中的至少一种。

5.如权利要求4所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述清洗液中的硫酸亚铁(II)铵、硫酸亚铁(II)或草酸亚铁(II)的浓度为0.015重量％～0.3重量％。

6.如权利要求1～5任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述清洗液还含有抗坏血酸或巯基乙酸系化合物。

7.如权利要求6所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述清洗液中的抗坏血酸或巯基乙酸系化合物的浓度为0.2重量％～0.5重量％。

8.如权利要求1～7任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述清洗液还含有碱性水溶液。

9.如权利要求1～8任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，通过使所述清洗液和所述玻璃基板接触，除去所述玻璃基板上的铁氧化物。

10.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该制造方法包括：

研磨工序，使用研磨装置研磨玻璃基板的主表面，所述研磨装置具有含铁的研研磨平板；和

清洗工序，清洗经研磨工序后的玻璃基板，

其特征在于，

所述清洗工序使用包含草酸根离子和二价铁离子的清洗液在酸性条件下进行清洗。

11.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该制造方法具有玻璃基板的清洗工序，其特征在于，所述清洗工序为了溶解存在于玻璃基板上的铁系杂质，使用包含草酸根离子和二价铁离子的清洗液在酸性条件下进行清洗。

12.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该制造方法具有玻璃基板的清洗工序，其特征在于，在所述清洗工序中，使用将玻璃基板上存在的铁系杂质转换为二价铁离子的清洗液清洗该玻璃基板。

13.如权利要求10～12任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述清洗工序前的玻璃基板的表面粗糙度为0.2nm以下。

14.如权利要求10～12任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述清洗工序后的玻璃基板的表面粗糙度为0.2nm以下。

15.如权利要求10～14任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在所述研磨工序中，使用含有平均粒径为30nm以下的二氧化硅的研磨磨料研磨玻璃基板。

16.如权利要求10～15任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，将所述清洗液的pH设定为1.8～4.2。