[发明专利]透镜有效
| 申请号: | 201180001577.9 | 申请日: | 2010-02-23 |
| 公开(公告)号: | CN102365563A | 公开(公告)日: | 2012-02-29 |
| 发明(设计)人: | 菅忍 | 申请(专利权)人: | 柯尼卡美能达精密光学株式会社 |
| 主分类号: | G02B3/00 | 分类号: | G02B3/00;G02B5/18;G11B7/135 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 岳雪兰 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 透镜 | ||
技术领域
本发明涉及NA 0.7以上的具有高精度形状的透镜。
背景技术
近年来,能够用波长400nm程度的蓝紫色半导体激光进行信息记录 及/或再生(以下将“记录及/或再生”记为“记录/再生”)的高密度光盘系统的 研究开发迅速进展。作为一例,用NA 0.85、光源波长405nm规格 进行信息记录/再生的光盘、即所谓的Blu-ray Disc(以下称 为BD)的情况,对大小与DVD(NA0.6、光源波长650nm、记 忆容量4.7GB)相同的直径12cm的光盘每一层能够记录23~27 GB的信息。本说明书中称该光盘为高密度光盘。
作为用于光拾取装置的物镜,例如专利文献1中公开了通过树脂成型来 得到的技术。
先行技术文献
专利文献
专利文献1:特开2003-15031号公报
发明内容
发明欲解决的课题
专利文献1中公开的透镜,其中,为了避免透镜成型的不良,从数值孔 径NA最外光线相交的位置,设连接外侧透镜面的区域。但是,根据本发明 者的研讨发现,设这种连接区域时,横断面比(后述)大的话也会产生流动 痕迹等成型不良。而横断面比太小的话突缘厚变厚,不能增大有效径。因此, 对于有效径大的高NA透镜来说,如果减小横断面比的话,则从光学角度来 说透镜设计本身不成立。
本发明鉴于这种以往技术的问题点,目的在于提供一种能够抑制高NA 透镜成形时的不良状态、容易操作使用的透镜。
用来解决课题的手段
第1项记载的透镜是以树脂为素材成型的外周备有突缘部的NA 0.7 以上的透镜,其特征在于,
具有:含光轴的第1面;曲率小于所述第1面的被形成在所述第1面对 面一侧的第2面;在光轴垂直方向上被形成在所述第1面与所述突缘部之间 的中间端面;连接所述中间端面与所述第1面的迁移面;
所述第1面在与所述迁移面之交界处的法线与光轴的夹角θ1(锐角), 大于所述迁移面在与所述第1面之交界处的法线与光轴的夹角θ2,
当以光轴上的所述第1面与所述第2面之间的距离为d(mm)、所述 中间端面上的光轴方向最小薄度为t(mm)时,满足下式:
4.1>d/t>2.8 (1)。
根据本发明者的研究结果发现,虽然设所述迁移面能够抑制成型不良, 但d/t(称为横断面比)在4.1以上时,即使形成所述迁移面,也有可 能出现流动痕迹等成型不良。而d/t在2.8以下时,突缘厚太薄,例如 光拾取装置用物镜等情况时,不能精度良好地安装到装置中去。因此,通过 满足(1)式,提供能够抑制成型不良且组装性优异的透镜。
第2项记载的透镜是第1项中记载的发明,其特征在于,满足下式,所 以,能够更有效地抑制成型不良同时成型NA 0.7以上的透镜。
3.8>d/t>3.3 (1’)
第3项记载的透镜是第1或2项中记载的发明,其特征在于,当以所述 突缘部的光轴方向厚度为Δ(mm)时,满足下式:
t<Δ (2)。
一般来说例如光拾取装置用的物镜上,与连接区域连接的突缘部具有相 同厚度。如果是这种形状的话,可以通过设连接区域来较容易地抑制成型不 良。而近年来要求既减薄轴上厚又加厚突缘部的透镜。这种透镜上必须使中 间端面比第1面一侧的突缘部的面还要靠近第2面,但这样的话成型时向腔 的树脂流动方向急剧变化,容易出现流动痕迹等成型不良。对此,通过使横 断面比d/t满足(1)式,能够有效地抑制成型不良。即在满足(2)式 的透镜上,可谓尤其优选横断面比d/t满足(1)式。
第4项记载的透镜是第1~3的任何一项中记载的发明,其特征在于, 当以从光轴到所述迁移面内周边缘的径为D1、从光轴到所述中间端面内周 边缘的径为D2时,满足下式:
0.88<D1/D2<0.98 (3)。
如果值D1/D2在(3)式的上限以上,则D1≈D2,因此难以形 成成型所述透镜的模具。而如果值D1/D2在(3)式的下限以下,则所 述迁移面太大,导致横断面比d/t降低,不优选。因此,优选满足(3) 式的范围。
第5项记载的透镜是第4项中记载的发明,其特征在于,满足下式:
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