[实用新型]一种反应气体传输系统有效
申请号: | 201120575257.1 | 申请日: | 2011-12-31 |
公开(公告)号: | CN202415688U | 公开(公告)日: | 2012-09-05 |
发明(设计)人: | 崔军;吴国发;辛科 | 申请(专利权)人: | 汉能科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 102209 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 反应 气体 传输 系统 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种反应气体传输系统,具体地讲是涉及一种低压金属有机物化学气相沉积工艺反应腔室的反应气体传输系统。
背景技术
光伏应用的未来市场发展,特别是用于与电网相连的光伏电厂的应用,关键取决于降低太阳能电池生产成本的潜力。薄膜太阳能电池生产过程能耗低,具备大幅度降低原材料和制造成本的潜力;同时,薄膜太阳能电池在弱光条件下仍可发电。因此,目前市场对薄膜太阳能电池的需求正逐渐增长,而制造薄膜太阳能电池的技术更成为近年来的研究热点。
ZnO是一种N型直接带隙半导体材料,室温下禁带宽度Eg为3.37eV。由于其原材料丰富且无毒,具有高电导和高透过率,并且在H等离子体环境中性能稳定,因此,在太阳能电池领域,ZnO作为透明导电氧化物薄膜可进一步提高Si薄膜太阳能电池的效率和稳定性,加快产业化进程。作为陷光结构的绒面ZnO薄膜前电极和背反射电极显得尤为重要。
ZnO的生长方法有很多,包括脉冲激光沉积、低压金属有机物化学气相沉积、射频/中频/直流溅射、电子束和热反应蒸发、等离子体化学气相沉积、喷雾热分解和溶胶-凝胶法等。其中较为成熟的是低压化学气相沉积工艺。
在低压金属有机物化学气相沉积中,工艺气体气场的均匀性、气体的反应速度以及反应气体喷出距离一直是比较重要和关键的参数,为了满足工艺环境的诸多要求,在气体反应腔室的设计中就应当充分加以考虑,如图1所示,为充分给予工艺调整的空间和设备的兼容性,气体喷淋板装置4在物理结构上可以设计为可移动式的,气体喷淋板装置4的可调整性是在喷淋板的中心位置加装与反应腔室腔盖1结合的可移动导向圆缸3,通过丝杠系统进行手动上下调节。工艺特殊气体的柔性气体管路2同样通过可移动导向圆缸3中心位置作为接口界面进入到气体喷淋板装置4内部,柔性气体管路2在可移动导向圆缸3上下运动的过程中跟着运动,同时在反应腔室腔盖1开启和闭合时也跟着运动。由于气体喷淋板装置4的上下可调范围一般不超过5cm,此距离对于特殊气体软管来讲,只要预先留有相应余量,在此运动的过程中都不会出现任何问题。但问题的关键在于,腔室需要打开和关闭,打开的角度一般在110度,这样的一个打开的动作对于柔性气体管路2来讲是一个很大的角度,在弯曲角度上有很高的要求。同时在弯曲次数增多之后,不可避免的会有金属疲劳的现象发生,同样在运动的过程中很容易出现意外情况。众所周知,做ZnO工艺用的特殊气体均有毒性或易燃性,会给操作人员和维护人员带来极大的安全隐患。
实用新型内容
本实用新型提供一种反应气体传输系统,结构简单,极大程度的降低了特殊气体传输过程中发生泄露的可能性,且成本较低,易于维护。
为解决上述技术问题,本实用新型技术方案如下:
一种反应气体传输系统,包括设于反应腔室腔盖上部的气体管路,气体管路输气端通过腔盖与反应腔室内的喷淋装置连通,具体的讲,气体管路输气端是通过腔盖上的可移动导向圆缸与反应腔室内的喷淋装置连通;该系统还包括设于反应腔室内部侧壁上的气体导入模块和设于腔盖下部的气体导出模块;反应腔室侧壁开有引入气体的通孔,与气体导入模块密闭连通;腔盖开有引出气体的通孔,气体导出模块和气体管路的引气端通过该通孔连通;当腔盖闭合时,气体导入模块和气体导出模块密闭连通。
所述设于反应腔室腔盖上部的气体管路可以为柔性气体管路。
所述反应气体可以通过硬性气体管路与反应腔室侧壁上的通孔连通。
所述气体导入模块可以选择通过其自带的弹性压合面与气体导出模块密闭连通。
由于反应气体是两种或两种以上,所有的通气体的通孔、气体管路以及气体导入、导出模块均为至少两套气路,比如一路通水蒸气,另一路通二乙基锌蒸汽。本实用新型提供的反应气体传输系统,通过用反应腔室内部的气体导入和导出结构,将外部气体管路的进气和输气两端均固定于腔盖上,避免了外部气体管路存在运动的情况,极大地降低了气体泄露的可能性,结构简单,且成本较低,易于维护。
附图说明
图1是现有技术的反应气体传输系统结构示意图;
图2是本实用新型的反应气体传输系统结构示意图;
图3是本实用新型的一种气体导入模块的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。
实施例1
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的