[实用新型]一种生长石墨烯的支架、支架组件和石墨烯薄膜生长组件有效
| 申请号: | 201120551369.3 | 申请日: | 2011-12-26 |
| 公开(公告)号: | CN202492574U | 公开(公告)日: | 2012-10-17 |
| 发明(设计)人: | 彭鹏;金虎 | 申请(专利权)人: | 彭鹏 |
| 主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/24;C30B25/12;C30B29/02 |
| 代理公司: | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人: | 钟守期;王媛 |
| 地址: | 湖南省邵阳市宝庆*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 生长 石墨 支架 组件 薄膜 | ||
1.一个用于石墨烯薄膜生长的支架,所述支架具有以预定间隔卷绕的卷绕结构,所述卷绕结构具有内表面(S1)和与之相对的外表面(S2)、内边缘(E1)和外边缘(E2),并围绕内边缘(E1)卷绕一周以上以形成一层以上的结构,所述卷绕结构整体呈圆柱形。
2.根据权利要求1所述的支架,其中所述卷绕结构的内表面和/或外表面光滑且完整。
3.根据权利要求1所述的支架,其中所述支架的卷绕结构具有2-15层。
4.根据权利要求1所述的支架,其中所述卷绕结构的不同层之间具有相同的层厚和层间距。
5.根据权利要求1所述的支架,其中所述卷绕结构的长l、层数n、平均每层层厚t和平均层间距d满足以下关系式:0.5≤l×n×t/d≤2000,其中所述长l、平均每层层厚t和平均层间距d均以mm计。
6.根据权利要求1所述的支架,其中所述卷绕结构以内边缘E1作为中心轴。
7.根据权利要求1所述的支架,其中所述支架还包括两个或更多个固定件,用于固定待生长石墨烯的基底的边缘,使其边缘紧贴支架,从而使该基底贴近支架的一面不暴露在石墨烯生长气氛中。
8.一种支架组件,包括一个根据权利要求1-7中的任一项所述的支架和一个底托,所述底托用于托起所述支架。
9.根据权利要求8所述的支架组件,其中所述底托的上表面与所述支架的最外层结构匹配。
10.一种石墨烯薄膜生长组件,包括一个根据权利要求8所述的支架组件和一个加热炉管,其中所述支架组件中的支架能够置于底托上从而一同置于所述炉管内,使得所述支架与所述炉管同心。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





