[实用新型]带硅粉处理装置的多晶硅还原炉

权利要求书

1.一种带有硅微粉处理装置的多晶硅还原炉，由炉筒，炉体、底盘构成，炉筒上有冷却水腔，冷却水进水口、冷却水出水口、视镜，底盘上有电极、进气口、尾气排出口，炉筒与底盘之间用法兰连接，其特征在于位于底盘上部的还原炉尾气排出口部件设置有由金属硅化物或钨、铌、钽金属或其金属合金组成的机构。

2.根据权利要求1所述的带有硅微粉处理装置的多晶硅还原炉，其特征在于所述的金属硅化物机构由镍、铜、铁、锌、铝、锰、铑、铱的硅化物制备而成。

3.根据权利要求2所述的带有硅微粉处理装置的多晶硅还原炉，其特征在于在位于底盘上部的还原炉出口设置有由金属硅化物或钨、铌、钽金属或其金属合金组成的网状装置。

4.根据权利要求2所述的带有硅微粉处理装置的多晶硅还原炉，其特征在于在还原炉尾气出口管内壁上涂覆有一层金属硅化物或钨、铌、钽金属或/和其金属合金组成的涂层。

5.根据权利要求3所述的带有硅微粉处理装置的多晶硅还原炉，其特征在于网状装置的网眼截面形式可以有蜂巢形、圆形、正方形、三角形、六边形或八角形。

6.根据权利要求5所述的带有硅微粉处理装置的多晶硅还原炉，其特征在于所述网状装置的上部截面为圆形且其直径略大于还原炉尾气管内径以支撑在底盘上。

7.根据权利要求5所述的带有硅微粉处理装置的多晶硅还原炉，其特征在于所述网状装置上部外径和还原炉尾气管道的内径相契合以嵌套在尾气出口管的出口位置。

8.根据权利要求5所述的带有硅微粉处理装置的多晶硅还原炉，其特征在于所述网状装置的网线垂直向下延伸，其延伸形状为螺旋形、片状、棒状、管状、或者波纹状。

9.根据权利要求4所述的带有硅微粉处理装置的多晶硅还原炉，其特征在于所述涂层厚度为0.001mm-2mm。

10.根据权利要求9所述的带有硅微粉处理装置的多晶硅还原炉，其特征在于所述涂层厚度为0.1-0.2mm。

11.根据权利要求6、7或8所述的带有硅微粉处理装置的多晶硅还原炉，其特征在于所述还原炉尾气排出口部件还包括气体反吹管线。