[实用新型]框架二极管清洗装置有效

专利信息
申请号: 201120524803.9 申请日: 2011-12-15
公开(公告)号: CN202377233U 公开(公告)日: 2012-08-15
发明(设计)人: 蒋敏 申请(专利权)人: 常州星海电子有限公司
主分类号: B08B3/12 分类号: B08B3/12;B08B3/08
代理公司: 常州市维益专利事务所 32211 代理人: 何学成
地址: 213022 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 框架 二极管 清洗 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种清洗装置,特别是一种二极管的清洗装置。

背景技术

在框架二极管的生产过程中,有一道工序叫清洗,即将经过焊接的二极管芯粒和框架浸入清洗剂中进行超声清洗,清洗质量的好坏直接影响到框架二极管制成成品后的良率。传统的清洗方式是将众多焊接好的框架二极管堆叠在一起,放在不锈钢网篮中浸入清洗剂中进行超神清洗,这样清洗方式存在诸多弊端:一,因众多材料堆叠在一起,在超声清洗时,芯粒会因为超声振动而与其它框架发生碰撞,从而导致芯粒损伤,影响电性;

二,因众多材料堆叠在一起,超声清洗效果差,不易将杂质和污垢超声下来,同时,也会导致清洗下来的杂质和污垢会沉淀到其它材料上,影响清洗效果。

发明内容

本实用新型需要解决的技术问题是框架二极管清洗时堆叠清洗效果差,效率慢。

为解决上述的技术问题,本实用新型的框架二极管清洗装置包括底板,所述底板上设置有支架,所述支架上开有与框架二极管相适应的斜槽。

采用上述结构后,清洗时将框架二极管按顺序插入到支架相应的斜槽中,根据清洗剂液面的高度进行不同层数的堆叠,提高清洗的效率。同时,超声波能直接作用在待清洗的芯粒表面,更容易去除杂质和污垢,清洗效果好。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为图1的侧视图。

图中:1为底板,2为支架,3为斜槽,4为通孔

具体实施方式

如图1和图2所示的框架二极管清洗装置,包括底板1,所述底板1上设置有两根支架2,两根支架2横向开有若干与框架二极管相适应的斜槽3;一根支架上的斜槽与另一支架上的斜槽处于同一垂直线上。这样在清洗时,可以将框架二极管插入处于同一垂直线上的斜槽内加以固定。依此类推,每一条垂直线上的斜槽内都可以插入一个框架二极管,根据清洗剂液面的高度确定插入框架二极管的数量,进行不同层数的堆叠。

所述底板1上开有固定底板的通孔4,在支架2的斜槽3内依次插入好框架二极管后,将底板1通过通孔4整个的固定在超声波清洗机的清洗盘上。

这样将待超声清洗的框架二极管一条一条分开斜插在框架二极管清洗装置的斜槽内,根据清洗剂液面的高度进行不同层数的堆叠,提高了清洗的效率。这样的做法有以下的优点:第一,解决了传统超声清洗时芯粒与框架的碰撞,从而导致芯粒损伤,影响电性的问题;第二,超声波能直接作用在待清洗的芯粒表面,更容易去除杂质和污垢;第三,清洗下来的杂质和污垢不会沉淀到其它材料上。

当然,本实用新型的支架2的数量也可以是三个或三个以上,只要支架上的斜槽处于同一垂直线上可以将框架二极管很好的固定即可,这样的变换均落在本实用新型保护的范围之内。

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