[实用新型]一种模仁潜伏式浇口的定位加工装置及定位加工结构有效

专利信息
申请号: 201120470271.5 申请日: 2011-11-23
公开(公告)号: CN202411928U 公开(公告)日: 2012-09-05
发明(设计)人: 刘鸣源 申请(专利权)人: 深圳市东方亮彩精密技术有限公司
主分类号: B23Q3/18 分类号: B23Q3/18
代理公司: 深圳市千纳专利代理有限公司 44218 代理人: 刘海军
地址: 518000 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 潜伏 浇口 定位 加工 装置 结构
【说明书】:

技术领域

    本实用新型公开一种模仁的加工结构,特别是一种模仁潜伏式浇口的定位加工装置及定位加工结构。 

背景技术

  在模具的加工,尤其是带有潜伏式浇口的模仁的加工过程中,通常遇到的技术问题是基准的设定,常规的带有潜伏式浇口的模仁的加工过程中,基准设定方法一般是根据潜伏式浇口的斜度在模仁上用其它工序(例如CNC)加工两个相互垂直的设定基准面,然后再根据基准面对带有潜伏式浇口的模仁进行加工。这种方法的缺陷是增加了加工时的工作量,而且柔性化较差,特别是当模仁上多个潜伏式浇口的斜度不一致的情况下就会出现需要加工很多辅助设定面的状况。 

发明内容

针对上述提到的现有技术中的带有潜伏式浇口的模仁的加工过程工作量大的缺点,本实用新型提供一种新的模仁潜伏式浇口的定位加工装置及定位加工结构,其将基准面改为基准点,设置一个基准块,对加工时的模仁进行基准定位,精度比较容易保证,且结构简单。 

本实用新型解决其技术问题采用的技术方案是:一种模仁潜伏式浇口的定位加工装置,定位加工装置包括基准块、正弦磁力台和靠块,靠块固定安装在正弦磁力台上,基准块固定安装在正弦磁力台上,且对应于靠块安装。 

本实用新型同时保护一种利用上述的模仁潜伏式浇口的定位加工装置的定位加工结构,定位加工结构为将模仁放置在正弦磁力台上,且紧靠靠块设置,模仁的基准点紧靠基准块的基准点设置,模仁上的潜伏式浇口处插装有潜伏式浇口电极。 

本实用新型解决其技术问题采用的技术方案进一步还包括: 

所述的基准块上的基准点设置在基准块的一个角上。

所述的基准块上的基准点设置在基准块上基准块与靠块和正弦磁力台相交的角上。 

所述的基准块为长方体。 

所述的基准块为50×50×50mm的正方体。 

本实用新型的有益效果是:本实用新型利用基准转移的原理和理念,将原来比较难设定到的模仁基准面转移到比较容易设定到的基准块的尖点上,此外,由于基准块的形状比较简单(50×50×50mm的6面直角块),加工基准块时的精度比较容易保证,这样,利用这种设定方式最终加工出来的潜伏式浇口的精度也能得以很好地保证。 

下面将结合附图和具体实施方式对本实用新型做进一步说明。 

附图说明

图1为本实用新型模仁部分立体结构示意图。 

图2为本实用新型模仁部分另一视角的立体结构示意图。 

图3为本实用新型整体结构示意图。 

图中,1-正弦磁力台,2-靠块,3-模仁,4-基准块,5-潜伏式浇口电极。 

具体实施方式

本实施例为本实用新型优选实施方式,其他凡其原理和基本结构与本实施例相同或近似的,均在本实用新型保护范围之内。 

请参看附图1至附图3,本实用新型主要包括正弦磁力台1、靠块2和基准块4,靠块2固定安装在正弦磁力台1上,基准块4也固定安装在正弦磁力台1上,且紧靠这靠块2设置。本实施例中,正弦磁力台1用于对模仁3的支撑作用,到定位加工时,模仁3放置在正弦磁力台1上,且紧靠这靠块2,由靠块2和正弦磁力台1共同支撑模仁3,模仁3上的定位点基准点紧靠基准块4设置。本实施例中,基准块4为六面直角体,即长方体,优选为50×50×50mm的正方体,基准块4形状比较简单,加工时的精度比较容易保证,这样,最终加工出来的潜伏式浇口的精度也能得以很好地保证。本实施例中的基准块4上的基准点置在基准块4上基准块4与靠块2和正弦磁力台1相交的尖角上。定位时,模仁3上的基准点与基准块4上的基准点相对应,以实现加工定位。加工时,模仁3上的潜伏式浇口处插装有潜伏式浇口电极5。 

本实用新型利用基准转移的原理和理念,将原来比较难设定到的模仁基准面转移到比较容易设定到的基准块的尖点上,此外,由于基准块的形状比较简单(50×50×50mm的6面直角块),加工基准块时的精度比较容易保证,这样,利用这种设定方式最终加工出来的潜伏式浇口的精度也能得以很好地保证。 

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