[实用新型]用于离子源的加热装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及质谱领域，尤其涉及一种用于质谱中离子源的加热装置。

背景技术

离子源是质谱的重要组成部分。离子源的作用是将被分析的样品分子电离成带电的离子，并使这些离子在离子光学的作用下，汇集成具有一定几何形状和一定能量的离子束，然后进入质量分析器被分离。

离子源的结构和性能与质谱的灵敏度和分辨率有着密切的关系。影响离子源离子化的因素很多，干燥气是一个很重要的因素。干燥气和带电离子流的方向相反，其作用是使液滴进一步分散以加速溶剂的蒸发，以利于被分析物与溶剂的分离，减少犹如过快蒸发溶剂和气溶胶快速扩散所促进的分子-离子聚合作用。在加热的干燥气体的作用下，液滴中的溶剂被迅速蒸发，达到更好的离子化效果。

加热腔体温度和干燥气温度直接影响到去溶剂的效果。一般而言这两个温度越高时，去溶剂的效果越好，因为温度高溶剂容易气化，能够显著的提高去溶剂率，均匀的腔体温度和干燥气温度可以使得去溶剂效果在空间上没有大的差异。为了满足这些需求，这就要求在有加热装置的同时还需要有气体的流向路径结构。

传统的离子源上用到的气体主要是通过聚四氟管或其他气管引入到离子源里面，使得加热的气体里会带入其他杂质，影响仪器的性能，且有管路老化、漏气等潜在问题；同时气管的裸露严重影响到整机的美观。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型的一个目的在于提出一种用于离子源的加热装置，所述加热装置延长了干燥气体的气路，使气体温度可快速提高，从而达到更好的离子化效果。

根据本实用新型实施例的用于离子源的加热装置，包括：本体，所述本体内限定出圆柱形的加热腔室，所述本体的第一端具有加热端头，所述加热端头的第一侧表面上形成有环形的第一气体通道和与所述第一气体通道连通的气体入口，所述本体的第二端设有适于与温控开关相连的端口；陶瓷件，所述陶瓷件包括主体段和连接在所述主体段的第二侧的陶瓷端头，所述主体段间隙配合在所述加热腔室内且所述陶瓷端头的第二侧表面抵住所述加热端头的第一侧表面，所述主体段与所述本体之间限定出环形的第二气体通道，其中，所述第二气体通道和所述第一气体通道通过形成在所述加热端头的第一侧表面的多个气体缺口相连通。

根据本实用新型的用于离子源的加热装置，通过形成有相通的第一气体通道和第二气体通道中，为气体的流动提供了充足空间，以方便气体与本体以及陶瓷件的充分热交换，减少了热量损失，大大提高了气体加热的效率，进而在质谱过程中，提高了质谱离子化的效率，并有效地降低了产品的成本。另外，由于第一气体通道是通过加热端头和陶瓷端头限定，且第二气体通道是由主体段与本体之间限定出，这种设计中没有气管的参与，而第一气体通道和第二气体通道则起到了气管作用，使得气体与本体以及陶瓷件充分接触，高效利用了加热装置提供的热量，使得气体温度足够高。气体沿环形的第一气体通道和第二气体通道流动到加热腔体内部，削弱了气流，避免了对离子流的影响。

另外，根据本实用新型的用于离子源的加热装置还具有如下附加技术特征：

根据本实用新型的一个实施例，所述第一气体通道为形成在所述加热端头的第一侧表面上的环形的槽。

可选地，所述槽为弧形槽。

或者可选地，所述槽为方形槽。

根据本实用新型的一个实施例，所述气体缺口为三个或多于三个。

根据本实用新型的一个实施例，所述用于离子源的加热装置进一步包括：密封圈，所述密封圈设在所述陶瓷端头的第二侧表面与所述加热端头的第一侧表面之间以保证气密性。

根据本实用新型的一个实施例，所述用于离子源的加热装置进一步包括：入口气管，所述入口气管与所述气体入口相连以向所述气体入口内供入需被加热的气体。

可选地，所述入口气管为金属气管且焊接在所述加热端头的气体入口处。

根据本实用新型的一个实施例，在所述本体的外侧形成有螺旋形的路径槽。

可选地，所述路径槽为方形槽。

本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。

附图说明

本实用新型的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1是根据本实用新型实施例的用于离子源的加热装置的爆炸图；以及

图2是根据本实用新型实施例的用于离子源的加热装置的剖视图。

具体实施方式