[实用新型]玻璃镀膜用反应器有效

专利信息
申请号: 201120460790.3 申请日: 2011-11-19
公开(公告)号: CN202337730U 公开(公告)日: 2012-07-18
发明(设计)人: 金良茂;甘治平;王东;陈凯;张家林;单传丽;邹上荣;石丽芬 申请(专利权)人: 蚌埠玻璃工业设计研究院;中国建材国际工程集团有限公司
主分类号: C03C17/00 分类号: C03C17/00
代理公司: 安徽省蚌埠博源专利商标事务所 34113 代理人: 杨晋弘
地址: 233010 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 玻璃 镀膜 反应器
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种玻璃镀膜用反应器,具体涉及一种适用于大尺寸玻璃基板的玻璃镀膜用反应器。

背景技术

玻璃镀膜,尤其是在大尺寸玻璃基板上镀膜,常用的工艺是化学气相沉积,这一工艺的难点是对镀膜均匀性的控制,膜层厚度的不均匀,或是薄膜化学性质的不均匀,都会导致镀膜玻璃光学、电学等性能指标的降低。要得到均匀的镀层,必须使镀膜前驱物在整个基板宽度方向上进气、排气以及温度分布都是均匀的。为了在大尺寸基板上均匀成膜,有很多的方法被采用,1. 采取在气体通道内设置许多连续的挡板,增加气体的行程和阻力来达到气体在玻璃宽度方向上分布均匀,对镀膜前驱气体的混合和宽度方向上分布均匀都起到很好的作用,但是增加了气体的行程,对于具有热敏性的镀膜前躯体无疑增加了发生预反应的可能性。2.进气管采取的是多级套管的形式,每级套管上开有一定数量不等距的小孔,通过这种等静压管设计基本能实现基板宽度方向上气体的均匀性,但管上小孔的加工精度很难保证,更重要的是很容易造成小孔堵塞,难以清理。3. 为了能够达到玻璃基板宽度方向上气体分布均匀,采用分段补气的方式,但是这样的镀膜气体分配装置本身结构过于复杂而难以控制。4. 采取的是单根管路单侧进气,通道内设置有气体分布装置,这种装置采取单根管的单侧进气,很难保证气体在基板宽度方向上分布均匀。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了克服现有气体在基板宽度方向上分布不均匀,结构复杂的缺陷,而提供一种玻璃镀膜用反应器。 

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:

玻璃镀膜用反应器,其特征在于:包括一个沿镀膜生产线宽度设置的进气腔,所述的进气腔由上到下被分割成多个相通的小气腔室,进气腔的上端设有进气管对进气腔输入气体,进气腔的底面设有一个沿镀膜生产线宽度设置的长条形喷气口与镀膜室相联通,用于对玻璃镀膜。

镀膜气体由上而下经过多个小气腔室,混合均匀,在大尺寸基板上均匀成膜,且结构简单,并抑制预反应及堵塞。

在上述的主要技术方案的基础上,可以增加以下进一步完善的技术方案:

所述的进气腔由气体均布板分割成两排十二个小气腔室,上部的六个小气腔室间的气体均布板上设有一组沿镀膜生产线宽度设置的气孔,下部的六个小气腔室间的气体均布板具有沿镀膜生产线宽度设置长条形窄缝,上部的带有六个气孔的小气腔室可以使镀膜气体均匀混合,下部的六个小气腔室可以使镀膜气体按照长条形窄缝进行流通,便于对镀膜气体流通方向的控制;所述的小气腔室的数量可以根据镀膜线的跨度变化,以及气孔、长条形窄缝设置位置都可以改变以保证镀膜气体均匀混合。

所述的进气腔两外侧分别设有一个沿镀膜生产线宽度设置的温度控制腔,温度控制腔内可以根据实际生产的需要通入不同的循环介质,阻隔了镀膜器外界温度对镀膜气体温度的影响,以抑制气态原料之间的预反应。

所述的每个温度控制腔的外侧设有一个沿镀膜生产线宽度设置的排气腔,每个排气腔内设有一组沿镀膜生产线宽度设置的圆形管,相邻的圆形管间具有一个沿圆形管通长方向设置的窄通道相连通,相连的一组圆形管的一端的一个圆形管与排气腔底部接触,在接触处具有一个沿镀膜生产线宽度设置的吸入口,将圆形管与镀膜室相联通,另一端的一个圆形管上设有相联通的排气管与外界相通,排气腔为了保证是镀膜后的废气从镀膜室内排出,保持镀膜室内处于良好的镀膜环境,这种圆管设计能减小排气阻力,防止通道堵塞;所述的进一组沿镀膜生产线宽度设置的圆形管在排气腔内相连成蛇形状结构,这种蛇形设计能够保证反应器排气的均匀性。

所述的每个排气腔的外侧分别设有一个沿镀膜生产线宽度设置的温度控制腔,温度控制腔内可以根据实际生产的需要通入不同的循环介质,阻隔了镀膜器外界温度对镀膜气体温度的影响,以抑制气态原料之间的预反应。

本实用新型的有益效果是结构简单、拆卸方便、更换灵活,易于实现均匀镀膜,并抑制预反应及堵塞。

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

附图说明:

图1为本实用新型的主视图。

具体实施方式

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