[实用新型]一种异形砖及其形成的墙体结构有效
申请号: | 201120449314.1 | 申请日: | 2011-11-14 |
公开(公告)号: | CN202391000U | 公开(公告)日: | 2012-08-22 |
发明(设计)人: | 汪荣耀;汪浩 | 申请(专利权)人: | 汪浩 |
主分类号: | E04C1/00 | 分类号: | E04C1/00;E04C1/39;E04B2/08;E04B2/32 |
代理公司: | 杭州天正专利事务所有限公司 33201 | 代理人: | 王兵;王利强 |
地址: | 315040 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 异形 及其 形成 墙体 结构 | ||
1.一种异形砖,所述的砖是纵向型材,包括:顶面、底面、两个端面和两个侧面,其特征在于:所述砖的顶面设有至少两条水平上凸楞,所述水平上凸楞纵向平行布置,相邻水平上凸楞之间为水平上凹槽,所述砖的底面设有至少两条水平下凹槽,所述水平上凸楞与水平下凹槽匹配,所述水平上凸楞的数量与所述水平下凹槽的数量相等;所述砖的一个侧面设有至少两条垂直凸楞,所述垂直凸楞垂向平行布置,所述砖的另一个侧面设有至少两条垂直凹槽,所述垂直凸楞与垂直凹槽匹配,所述垂直凸楞的数量与所述垂直凹槽的数量相等;
所述水平上凸楞上设置多个上凸块,所述水平下凹槽的深度等于水平上凸楞的厚度和上凸块的厚度之和;所述底面上的相邻水平下凹槽之间为水平下凸楞;
所述的顶面和底面是这样形成,当所述的砖与相邻下面砖叠砌形成墙体时,相邻下面砖的水平凸楞与所述砖的水平凹槽接触,阻止了相对的横向移动。
2.如权利要求1所述的异形砖,其特征在于:多条水平上凸楞、水平下凹槽、垂直凸楞和垂直凹槽均等间距布置,所述水平上凸楞、水平下凹槽的两端均与垂直凸楞垂直凹槽相接。
3.如权利要求1或2所述的异形砖,其特征在于:所述水平下凸楞上设有多个下凸块。
4.如权利要求3所述的异形砖,其特征在于:所述上凸块和下凸块呈塔形,凸块的横截面由下到上逐渐减小。
5.如权利要求1或2所述的异形砖,其特征在于:所述砖内开有孔,所述孔从上到下从一侧到另一侧倾斜,所述孔的上端与水平上凹槽连通,所述孔的下端与与水平上凹槽对应的水平下凸楞相接的水平下凹槽与靠近墙体外侧的水平下凸楞的连接处连通;每一条水平上凹槽均与至少一个孔的上端连通。
6.如权利要求5所述的异形砖,其特征在于:所述孔的截面为方形、圆形或长条形。
7.如权利要求1或2所述的异形砖,其特征在于:所述水平上凸楞有n条,n为自然数,且n≥2,所述上凸块有2n个,第1~n个凸块与第n+1~2n个凸块对称布置,第1~n个凸块中,相邻上凸块之间的间距与相邻水平上凸楞之间的间距相等,且所述第n个上凸块和第n+1个上凸块之间的间距大于等于相邻水平上凸楞之间的间距的两倍。
8.一种用如权利要求1所述的异形砖形成的墙体结构,所述的墙体包括所述的砖纵向相接形成的墙层,所述的墙层层层叠置,相邻墙层的砖之间相互交错布置,所述的砖是纵向型材,包括:顶面、底面、两个端面和两个侧面,其特征在于:所述砖的顶面设有至少两条水平上凸楞,所述水平上凸楞纵向平行布置,相邻水平上凸楞之间为水平上凹槽,所述砖的底面设有至少两条水平下凹槽,所述水平上凸楞与水平下凹槽匹配,所述水平上凸楞的数量与所述水平下凹槽的数量相等;所述砖的一个侧面设有至少两条垂直凸楞,所述垂直凸楞垂向平行布置,所述砖的另一个侧面设有至少两条垂直凹槽,所述垂直凸楞与垂直凹槽匹配,所述垂直凸楞的数量与所述垂直凹槽的数量相等;
所述水平上凸楞上设置多个上凸块,所述水平下凹槽的深度等于水平上凸楞的厚度和上凸块的厚度之和;所述底面上的相邻水平下凹槽之间为水平下凸楞;
所述的顶面和底面是这样形成,当所述的砖与相邻下面砖叠砌形成墙体时,相邻下面砖的水平凸楞与所述砖的水平凹槽接触,阻止了相对的横向移动。
9.如权利要求8所述的墙体结构,其特征在于:所述水平下凸楞上设有多个下凸块。
10.如权利要求8或9所述的墙体结构,其特征在于:多条水平上凸楞、水平下凹槽、垂直凸楞和垂直凹槽均等间距布置,所述水平上凸楞、水平下凹槽的两端均与垂直凸楞垂直凹槽相接。
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